[实用新型]投影模组及深度相机有效
申请号: | 201720699207.1 | 申请日: | 2017-06-14 |
公开(公告)号: | CN206833136U | 公开(公告)日: | 2018-01-02 |
发明(设计)人: | 罗乐华;李爱文;黄杰凡 | 申请(专利权)人: | 深圳奥比中光科技有限公司 |
主分类号: | G03B21/20 | 分类号: | G03B21/20;G03B21/14;G03B17/54 |
代理公司: | 深圳中一联合知识产权代理有限公司44414 | 代理人: | 张全文 |
地址: | 518000 广东省深圳市南山区粤*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 投影 模组 深度 相机 | ||
1.投影模组,其特征在于,包括:
底座;
光源,设置于所述底座上,用于发射光束;
透镜,设置于所述光源的发射光路上,由一内部支架支撑,用于准直所述光束;
图案生成器,设置于所述透镜的出射光路上,由一外部支架支撑,用于将所述光束进行分束以形成结构光图案;
所述内部支架与所述外部支架为独立的非一体结构,所述内部支架及所述外部支架安装在所述底座上。
2.如权利要求1所述的投影模组,其特征在于,所述光源为垂直腔面激光发射器阵列,包括晶圆基底以及形成于所述晶圆基底上的激光发射单元,所述晶圆基底同时用作所述底座。
3.如权利要求1所述的投影模组,其特征在于,所述光源为垂直腔面激光发射器阵列或者边发射激光器,所述底座为电路板或金属散热底板。
4.如权利要求2或3所述的投影模组,其特征在于,所述垂直腔面激光发射器阵列中的多个激光发射器呈不规则二维排布以提高所述结构光图案的不相关性。
5.如权利要求1所述的投影模组,其特征在于,所述外部支架套设于所述内部支架外侧,且所述内部支架和外部支架的端部均与所述底座连接;
或者,所述内部支架靠近所述光源的一端缩于所述外部支架内部,所述内部支架的外周壁与所述外部支架的内周壁相连接,所述外部支架的端部与所述底座连接。
6.如权利要求1所述的投影模组,其特征在于,所述内部支架为金属散热支架,所述外部支架为金属散热支架或塑胶支架。
7.深度相机,其特征在于,包括:
权利要求1~6任一项所述的投影模组,用于发射结构光图案;
采集模组,用于采集所述结构光图案被目标物体调制后的光学信息;
处理器,与所述投影模组和所述采集模组连接,用于根据所述光学信息进行深度计算后获取反映所述目标物体的深度图像。
8.一种深度相机,其特征在于,包括:
投影模组,用于发射结构光图案;
采集模组,用于采集所述结构光图案被目标物体调制后的光学信息;
处理器,与所述投影模组和所述采集模组连接,用于根据所述光学信息进行深度计算后获取反映所述目标物体的深度图像;
所述投影模组至少包括:
光源,用于发射光束;
第一透镜,设置于所述光源的发射光路上,由第一内部支架支撑,用于准直所述光束;
图案生成器,设置于所述第一透镜的出射光路上,用于将所述光束进行分束以形成结构光图案;
所述采集模组至少包括:
第二透镜,由第二内部支架支撑,用于收集所述结构光图案经被目标物体调制后的光学信息;
所述深度相机还包括:
底座,用于承载所述投影模组、采集模组以及处理器;
外部支架,设置于所述底座上且套设于所述第一内部支架和第二内部支架外侧;
所述图案生成器设置于所述外部支架上。
9.如权利要求8所述的深度相机,其特征在于,所述外部支架的开口端设有封装件,所述封装件至少设有与所述第一透镜对应的出射窗和与所述第二透镜对应的入射窗,所述出射窗处设有所述图案生成器。
10.如权利要求8所述的深度相机,其特征在于,所述第一内部支架、第二内部支架、光源及处理器均安装于所述底座上。
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