[实用新型]一种具有同层双量子阱结构的电吸收激光器有效

专利信息
申请号: 201720678138.6 申请日: 2017-06-12
公开(公告)号: CN206820250U 公开(公告)日: 2017-12-29
发明(设计)人: 卫思逸;李马惠;潘彦廷;刘拓;陈发涛;冯旭超;赵小亮;杨旗;韦盼;孙娟娟 申请(专利权)人: 陕西源杰半导体技术有限公司
主分类号: H01S5/34 分类号: H01S5/34
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司61200 代理人: 徐文权
地址: 712000 陕西省西安市西咸新区沣西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 具有 量子 结构 吸收 激光器
【权利要求书】:

1.一种具有同层双量子阱结构的电吸收激光器,其特征在于,包括衬底(1)和设置在衬底(1)底面的N面电极层(11),衬底(1)上从下至上依次设置有量子阱膜层(2)、蚀刻阻挡层(4)、载体终止层(7)和接触层(8);其中,蚀刻阻挡层(4)、载体终止层(7)和接触层(8)通过中段位置刻蚀的隔离区分为左右不连的两部分,蚀刻阻挡层(4)、载体终止层(7)和接触层(8)的断面处、接触层(8)的顶面处以及隔离区的底面处均覆盖有绝缘层(9);量子阱膜层(2)包括处于同层的第一量子阱(21)和第二量子阱(22);绝缘层(9)上设置有通过隔离区分开的两P面电极层(10)。

2.根据权利要求1所述的一种具有同层双量子阱结构的电吸收激光器,其特征在于,第一量子阱(21)和第二量子阱(22)的厚度相同。

3.根据权利要求1所述的一种具有同层双量子阱结构的电吸收激光器,其特征在于,第一量子阱(21)和第二量子阱(22)的厚度为10~100nm。

4.根据权利要求1所述的一种具有同层双量子阱结构的电吸收激光器,其特征在于,第一量子阱(21)为本征型InGaAsP材料量子阱,第二量子阱(22)为空穴掺杂型InGaAsP材料量子阱。

5.根据权利要求1所述的一种具有同层双量子阱结构的电吸收激光器,其特征在于,第一量子阱(21)和第二量子阱(22)为一体结构成型,第一量子阱(21)部分区域热扩散进入P+形成第二量子阱(22)。

6.根据权利要求1所述的一种具有同层双量子阱结构的电吸收激光器,其特征在于,第一量子阱(21)为1550nm或1310nm禁带宽度的本征型InGaAsP材料量子阱,第二量子阱(22)为1580nm或1350nm禁带宽度的空穴掺杂型InGaAsP材料量子阱。

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