[实用新型]一种单晶硅片清洗装置

权利要求书

1.一种单晶硅片清洗装置，包括横梁（1）、底座（2）和支撑座（13），其特征在于：所述底座（2）位于横梁（1）的正下方，所述底座（2）的顶部设有支腿（3），所述支腿（3）的顶部设有水箱（4），所述水箱（4）顶部开口设置，所述水箱（4）的底部安装有超声波发生器（5），所述水箱（4）内底部设有换能器（6），所述水箱（4）的右侧壁顶部连接有进水管（7），所述水箱（4）的右侧壁底部连接有出水管（8），所述支撑座（13）的中间设有钢丝网（16），所述钢丝网（16）的顶部设有存放壳体（17），所述存放壳体（17）上均匀的开设有存放槽（19），所述存放槽（19）的底部开设有漏水孔（20），所述支撑座（13）顶部的左右两侧对称设有支架（14），所述支架（14）的顶部设有起吊环（15），所述横梁（1）顶部的右侧安装有电机（9），所述横梁（1）上还设有卷筒架（10），所述卷筒架（10）上转动连接有卷筒（11），所述电机（9）输出端连接到卷筒（11），所述卷筒（11）上缠绕有钢丝绳（12），所述钢丝绳（12）的底端连接到起吊环（15）。

2.根据权利要求1所述的一种单晶硅片清洗装置，其特征在于：所述进水管（7）和出水管（8）的端部均连接有法兰，所述法兰上设有密封圈。

3.根据权利要求1所述的一种单晶硅片清洗装置，其特征在于：所述支腿（3）和水箱（4）之间焊接，所述支腿（3）和水箱（4）的连接处设有加强筋。

4.根据权利要求1所述的一种单晶硅片清洗装置，其特征在于：所述存放槽（19）为半圆形，所述存放槽（19）的宽度不小于5mm。

5.根据权利要求1所述的一种单晶硅片清洗装置，其特征在于：所述存放槽（19）之间的间隔距离在3mm-5mm之间。

6.根据权利要求1所述的一种单晶硅片清洗装置，其特征在于：所述起吊环（15）设置四组，所述支架（14）和起吊环（15）之间焊接。

7.根据权利要求1所述的一种单晶硅片清洗装置，其特征在于：所述存放壳体（17）通过螺栓（18）固定于支架（14）。