[实用新型]一种单晶硅片清洗烘干一体化装置

权利要求书

1.一种单晶硅片清洗烘干一体化装置，包括顶板（1），其特征在于：所述顶板（1）两侧安装有第一电机（2），所述第一电机（2）输出端设有第一转轴（3），所述顶板（1）底部滑动连接有气缸（4），所述第一转轴（3）通过钢丝绳（5）连接于气缸（4），所述气缸（4）底部输出端安装有连接板（6），所述连接板（6）底部安装有第二电机（7），所述第二电机（7）输出端设有第二转轴（8），所述第二转轴（8）底部安装有放置箱（9），所述放置箱（9）底部从左至右依次设有第一清洗箱（10）、第二清洗箱（11）和烘干箱（12），所述第一清洗箱（10）左侧设有超声波发生器（13），所述第一清洗箱（10）内底部对应安装有换能器（14），所述第一清洗箱（10）、第二清洗箱（11）和烘干箱（12）顶部均设有凸沿（15），所述第二清洗箱（11）左侧顶部设有进气口（16），所述第二清洗箱（10）右侧底部设有出气口（17），所述烘干箱（12）右侧设有热风机（18），所述热风机（18）上的出风管贯穿烘干箱（12）设置，所述烘干箱（12）内右侧壁设有导风板（19），所述烘干箱（12）内一侧开设有透气孔。

2.根据权利要求1所述的一种单晶硅片清洗烘干一体化装置，其特征在于：所述气缸（4）两侧设有连接环（21），所述钢丝绳（5）连接于连接环（21）。

3.根据权利要求1所述的一种单晶硅片清洗烘干一体化装置，其特征在于：所述放置箱（9）底部铰接有箱盖，所述放置箱（9）侧面设有钢丝网。

4.根据权利要求1所述的一种单晶硅片清洗烘干一体化装置，其特征在于：所述连接板（6）和第一清洗箱（10）、第二清洗箱（11）和烘干箱（12）顶部的凸沿（15）的配合关系为间隙配合。

5.根据权利要求1所述的一种单晶硅片清洗烘干一体化装置，其特征在于：所述热风机（18）底部设有三角架（20），所述三角架（20）焊接于烘干箱（12）。

6.根据权利要求1所述的一种单晶硅片清洗烘干一体化装置，其特征在于：所述导风板（19）上均匀开设有导风孔。