[实用新型]一种减反射膜及镜片有效

专利信息
申请号: 201720652600.5 申请日: 2017-06-07
公开(公告)号: CN207181731U 公开(公告)日: 2018-04-03
发明(设计)人: 李唯宏 申请(专利权)人: 鹤山市嘉米基光电科技有限公司
主分类号: G02B1/115 分类号: G02B1/115
代理公司: 广州恒华智信知识产权代理事务所(普通合伙)44299 代理人: 廖金燕
地址: 529700 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 减反射膜 镜片
【权利要求书】:

1.一种减反射膜,用于有机高分子基底表面,包括镀设于有机高分子基底表面的五层膜,其特征在于,每层膜均由五氧化三钛层和镀设于该五氧化三钛层表面的二氧化硅层组成,每层膜五氧化三钛层的厚度均为10nm-20nm;所述五层膜分别为从有机高分子基底表面依次镀设的第一层膜、第二层膜、第三层膜、第四层膜和第五层膜,其中,第一层膜的二氧化硅层的厚度为:27.5nm-53.1nm;第二层膜的二氧化硅层的厚度为:2.0nm-5.0nm;第三层膜的二氧化硅层的厚度为:12.5nm-45.6nm;第四层膜的二氧化硅层的厚度为:5.0nm-11.3nm;第五层膜的二氧化硅层的厚度为:89.8nm-105.0nm。

2.如权利要求1所述的减反射膜,其特征在于,五层膜的总厚度为243.1nm-260.7nm;各层膜的五氧化三钛层的厚度均相同;所述有机高分子基底所用的材料为透明材料。

3.如权利要求1所述的减反射膜,其特征在于,每层膜的五氧化三钛层的厚度均为10nm;所述有机高分子基底所用的材料为聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯或聚碳酸酯;所述基底为基板。

4.如权利要求1所述的减反射膜,其特征在于,每层膜五氧化三钛层的厚度均为14.0nm;第一层膜的二氧化硅层的厚度为:42.5nm;第二层膜的二氧化硅层的厚度为:5.0nm;第三层膜的二氧化硅层的厚度为:30.5nm;第四层膜的二氧化硅层的厚度为:9.5nm;第五层膜的二氧化硅层的厚度为:97.5nm。

5.如权利要求1所述的减反射膜,其特征在于,每层膜五氧化三钛层的厚度均为10.0nm;第一层膜的二氧化硅层的厚度为:53.1nm;第二层膜的二氧化硅层的厚度为:2.0nm;第三层膜的二氧化硅层的厚度为:45.6nm;第四层膜的二氧化硅层的厚度为:5.0nm;第五层膜的二氧化硅层的厚度为:105.0nm。

6.如权利要求1所述的减反射膜,其特征在于,每层膜五氧化三钛层的厚度均为20.0nm;第一层膜的二氧化硅层的厚度为:27.5nm;第二层膜的二氧化硅层的厚度为:2.0nm;第三层膜的二氧化硅层的厚度为:12.5nm;第四层膜的二氧化硅层的厚度为:11.3nm;第五层膜的二氧化硅层的厚度为:89.8nm。

7.一种镜片,包括有机高分子基底,其特征在于,所述有机高分子基底表面镀设有权利要求1-6任一项所述的减反射膜。

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