[实用新型]一种浴用金属矿物离子元素释放装置有效

专利信息
申请号: 201720592461.1 申请日: 2017-05-25
公开(公告)号: CN207108585U 公开(公告)日: 2018-03-16
发明(设计)人: 于志民;刘应家 申请(专利权)人: 江苏亿美电器有限公司
主分类号: C02F1/68 分类号: C02F1/68
代理公司: 佛山东平知识产权事务所(普通合伙)44307 代理人: 詹仲国
地址: 211700 江苏省淮*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 金属 矿物 离子 元素 释放 装置
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及洗浴设备技术领域,更具体的是涉及一种浴用金属矿物离子元素释放装置。

背景技术

现代的SPA关键是水资源及水设备,常见的有桶浴、湿蒸、干蒸、淋浴及水力按摩浴等,也常常选用矿物质、海底泥、花草萃取物、植物精油、按摩油等来作用于人体。目前市场上的SPA种类很多,水疗SPA是其中的一种,能够愉悦身心,为内心囤积的压力、疲惫、惶惑找到一个出口,令人的身、心、灵达到和谐与平衡的享受。目前,水疗SPA设备一般都是设置在一些养生馆、会所等场所,家用的很少。而且,不管是养生馆的,还是家用的,一般其用水中的矿物离子含量都是很低的,而矿物离子却是维持人机体代谢的重要物质,将富含矿物离子的水用于水疗SPA中,可以很好的起到美容美颜、放松身体、舒缓身心、健康皮肤、治疗疾病等功效。为此,有必要研发出一种浴用金属矿物离子元素释放装置。

发明内容

本实用新型的目的就是为了解决现有技术之不足而提供的一种不仅结构简单,使用方便,而且设计合理的浴用金属矿物离子元素释放装置。

本实用新型是采用如下技术解决方案来实现上述目的:一种浴用金属矿物离子元素释放装置,其特征在于,它包括过滤瓶、过滤盖、设置在过滤瓶内的过滤芯、设置在过滤芯内的能释放金属矿物离子的滤材,滤材包括除氯球、活性晶球、负离子球、负电位球、富硒球、石英砂、无烟煤、富氢球、远红外球;进入过滤瓶的水经过过滤芯,使得水中的矿物离子含量增加。

作为上述方案的进一步说明,所述滤芯包括滤芯内设置有左、右腔室,左、右腔室内填充滤材,在左腔室的顶部对应连接有上腔室一,在右腔室的顶部对应连接有上腔室二,上腔室一和上腔室二连通。

进一步地,所述过滤盖设置在过滤瓶的底部,过滤盖设置有进、出水通道,进水通道与左腔室连通,出水通道与右腔室连通。

进一步地,所述除氯球的直径为2-4mm,活性晶球的直径为3-5mm,负离子球的直径为3-5mm,负电位球的直径为3-4mm,富硒球的直径为3-4mm,石英砂的直径为1-2mm,无烟煤的直径为0.8-1.2mm,富氢球的直径为3-4mm,远红外球的直径为3-4mm。

本实用新型采用上述技术解决方案所能达到的有益效果是:

本实用新型采用在过滤芯内设置富硒球等能释放多种人体必需的微量元素的滤材,缓慢均匀地释放在净化水中,使得活化净水含有更多有益的矿物质,不仅具有抗癌作用,有抗氧化作用,增强人体免疫力,能调节维生素A、C、E等的吸收利用。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图;

图2为本实用新型的内部结构示意图。

附图标记说明:1、过滤瓶2、过滤盖2-1、进水通道2-2、出水通道3、过滤芯3-1、左腔室3-2、右腔室3-3、上腔室一3-4、上腔室二。

具体实施方式

以下结合具体实施例对本技术方案作详细的描述。

如图1-图2所示,本实用新型是一种浴用金属矿物离子元素释放装置,它包括过滤瓶1、过滤盖2、设置在过滤瓶内的过滤芯3、设置在过滤芯内的能释放金属矿物离子的滤材,滤材包括除氯球、活性晶球、负离子球、负电位球、富硒球、石英砂、无烟煤、富氢球、远红外球;进入过滤瓶的水经过过滤芯,使得水中的矿物离子含量增加。滤芯3包括滤芯内设置有左、右腔室3-1、3-2,左、右腔室内填充滤材,在左腔室的顶部对应连接有上腔室一3-3,在右腔室的顶部对应连接有上腔室二3-4,上腔室一和上腔室二连通。过滤盖设置在过滤瓶的底部,过滤盖设置有进、出水通道2-1、2-2,进水通道与左腔室连通,出水通道与右腔室连通。

本实施例中,所述除氯球的直径为3mm,活性晶球的直径为4mm,负离子球的直径为4mm,负电位球的直径为3mm,富硒球的直径为3mm,石英砂的直径为1mm,无烟煤的直径为1mm,富氢球的直径为3mm,远红外球的直径为3mm,由于石英砂和无烟煤的直径小,因此,可填充于其他滤材的间隙之间。

本实用新型与现有技术相比,采用在过滤芯内设置富硒球等能释放多种人体必需的微量元素的滤材,缓慢均匀地释放在净化水中,使得活化净水含有更多有益的矿物质,不仅具有抗癌作用,有抗氧化作用,增强人体免疫力,能促进调节维生素的吸收利用。

以上所述的仅是本实用新型的优选实施方式,应当指出,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型创造构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本实用新型的保护范围。

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