[实用新型]一种超声科用耦合剂涂抹装置

说明书

本实用新型公开了一种超声科用耦合剂涂抹装置，在隔挡板上表面设置上弧形凹槽，当耦合剂越来越少时，耦合剂会集中在上弧形凹槽中，通过出液孔落到输送带上，能够将耦合剂充分利用，不留残余；还设有搅拌装置，搅拌装置降低了耦合剂混合均匀的时间，弧形搅拌叶片与隔挡板上的上弧形凹槽形状相对应，能够更好地对耦合剂进行搅拌，而且在对耦合剂进行加温时，搅拌装置还能够起到使耦合剂内部温度均匀，减少加热时间的作用；隔挡板下表面设置下弧形凹槽，而且在隔挡板下方设置与下弧形凹槽形状相对应的第二滚涂轮，不仅能使耦合剂从出液孔中落到第一滚涂轮和第二滚涂轮上的输送带上，而且还能够限制落下的量，保证耦合剂涂抹均匀。

技术领域

本实用新型属于医疗用具技术领域，尤其涉及一种超声科用耦合剂涂抹装置。

背景技术

临床上在给病人进行彩超检查时，需要先在检查部位涂抹耦合剂，而目前医生主要是将耦合剂自耦合剂瓶中挤出抹在检查部位，再用彩超探头涂抹检查，这样效率低而且耦合剂涂抹不均匀，导致影像不清晰；在使用耦合剂之前经常需要摇晃耦合剂瓶，以使耦合剂混合均匀，通过医生手摇晃动需要时间较长，不仅降低了医生的工作效率而且耦合剂混合还不均匀；在冬季气温较低时，需要对耦合剂进行加温，以降低病人的不适感，而现有的加温方式缺少搅拌装置，耦合剂各部位温度不一致，需要加热较长时间，如果加热时间较短时，会出现局部耦合剂温度高，局部温度低的情况。

实用新型内容

本实用新型的目的在于针对上述现有技术的不足，提供一种能够均匀涂抹耦合剂的超声科用耦合剂涂抹装置。

为解决上述问题，本实用新型所采取的技术方案是：

一种超声科用耦合剂涂抹装置，包括两端开口的壳体，所述壳体为长方体结构，内部设有隔挡板，所述隔挡板上表面设有上弧形凹槽，下表面设有下弧形凹槽，所述隔挡板中部设有一排连通上弧形凹槽和下弧形凹槽的出液孔，所述壳体的上端开口设有盖体，所述壳体的下端开口设有第一滚涂轮，所述盖体上表面设有搅拌电机，所述搅拌电机的输出轴上固定连接有搅拌轴，所述搅拌轴伸入壳体内部，所述搅拌轴由上而下设有三组搅拌叶片组，每组搅拌叶片组均由两个搅拌叶片组成，其中最下面的一组搅拌叶片为弧形搅拌叶片，所述隔挡板下方设有与下弧形凹槽形状相对应的第二滚涂轮，所述第一滚涂轮和第二滚涂轮上设有输送带。

更进一步的，所述盖体上还设有电加热管。

更进一步的，所述出液孔有4个，均匀的排布在一条直线上。

更进一步的，所述上弧形凹槽内设有压力传感器，所述压力传感器与设置于壳体外侧的蜂鸣器相连。

采用上述技术方案所产生的有益效果在于：在隔挡板上表面设置上弧形凹槽，使用过程中，当耦合剂越来越少时，耦合剂会集中在上弧形凹槽中，通过出液孔落到输送带上，能够将耦合剂充分利用，不留残余；本实用新型还设有搅拌装置，搅拌装置降低了耦合剂混合均匀的时间，而且该种设计还能够使耦合剂充分混合，弧形搅拌叶片与隔挡板上的上弧形凹槽形状相对应，能够更好地对耦合剂进行搅拌，而且在对耦合剂进行加温时，搅拌装置还能够起到使耦合剂内部温度均匀，减少加热时间的作用；隔挡板下表面设置下弧形凹槽，而且在隔挡板下方设置与下弧形凹槽形状相对应的第二滚涂轮，不仅能使耦合剂从出液孔中落到第一滚涂轮和第二滚涂轮上的输送带上，而且还能够限制落下的量，即输送带上耦合剂的厚度受下弧形凹槽和输送带之间的距离控制，保证耦合剂涂抹均匀。在上弧形凹槽内设有压力传感器，在耦合剂快用完的时候，能够自动报警提醒医生添加耦合剂，避免因医生忙碌忘记添加耦合剂而导致影像不清晰。

总的来说本实用新型结构简单，不仅能够使耦合剂充分使用，不留残余，使耦合剂混合均匀，减少混合时间，还能够减少加热的时间，而且还能够使耦合剂涂抹均匀，在耦合剂快用完的时候，会自动报警提醒医生添加耦合剂。

附图说明

图1是本实用新型的主视图；

图2是本实用新型的立体图；