[实用新型]厚度检测装置、介质鉴别装置以及介质处理装置

权利要求书

1.一种厚度检测装置，其特征在于，该厚度检测装置具有：

基准辊；

检查辊，其与所述基准辊相对配置且与该基准辊抵接；

支架，其保持所述检查辊；

施力部件，其安装在所述支架上，使所述检查辊向所述基准辊施力；以及

检测部，其检测介质通过形成在所述基准辊与所述检查辊之间的输送面而引起的该检查辊的位移，

在所述支架上形成有用于所述检测部检测位移的目标面，

所述检测部配置在比所述支架的目标面靠所述输送面的一侧。

2.根据权利要求1所述的厚度检测装置，其特征在于，

所述厚度检测装置还具有支承所述支架的第1框架，

所述支架经由支点轴被以转动自如的方式支承在所述第1框架上。

3.根据权利要求2所述的厚度检测装置，其特征在于，

所述检测部和所述支架的目标面被配置在比所述检查辊远离所述支点轴的位置。

4.根据权利要求1所述的厚度检测装置，其特征在于，

所述厚度检测装置还具有：

第1框架，其支承所述支架；以及

第2框架，其支承所述检测部，

所述第1框架和所述第2框架被直接地固定，或者经由第3框架被间接地固定。

5.根据权利要求1所述的厚度检测装置，其特征在于，

所述厚度检测装置还具有：

第1框架，其支承所述支架；

第2框架，其支承所述检测部；以及

第3框架，其固定所述第1框架和所述第2框架，

所述第3框架呈L字状的形状，而且，在L字的一边与所述第1框架固定，并且在L字的另一边与所述第2框架固定。

6.一种介质鉴别装置，其特征在于，该介质鉴别装置具有：

基准辊；

检查辊，其与所述基准辊相对配置且与该基准辊抵接；

支架，其保持所述检查辊；

施力部件，其安装在所述支架上，使所述检查辊向所述基准辊施力；

检测部，其检测介质通过形成在所述基准辊与所述检查辊之间的输送面而引起的该检查辊的位移；以及

光学检测部和磁检测部中的任意一方或双方，该光学检测部检测所述介质的图像信息，该磁检测部检测埋入于所述介质的磁信息，

在所述支架上形成有用于所述检测部检测位移的目标面，

所述检测部配置在比所述支架的目标面靠所述输送面的一侧。

7.一种介质处理装置，其特征在于，该介质处理装置具有：

基准辊；

检查辊，其与所述基准辊相对配置且与该基准辊抵接；

支架，其保持所述检查辊；

施力部件，其安装在所述支架上，使所述检查辊向所述基准辊施力；

检测部，其检测介质通过形成在所述基准辊与所述检查辊之间的输送面而引起的该检查辊的位移；以及

输送部，其输送所述介质，

在所述支架上形成有用于所述检测部检测位移的目标面，

所述检测部配置在比所述支架的目标面靠所述输送面的一侧。