[实用新型]用于热喷射液体的微流体设备有效
申请号: | 201720309876.3 | 申请日: | 2017-03-27 |
公开(公告)号: | CN206765566U | 公开(公告)日: | 2017-12-19 |
发明(设计)人: | D·朱斯蒂;L·滕托里 | 申请(专利权)人: | 意法半导体股份有限公司 |
主分类号: | B41J2/01 | 分类号: | B41J2/01;B41J2/175 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所11256 | 代理人: | 王茂华 |
地址: | 意大利阿格*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 喷射 液体 流体 设备 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种用于热喷射含有易于聚合或沉积的颜料和/或香料的液体的微流体设备。
背景技术
如已知的,针对例如在打印机和香水中的热喷射油墨和/或香料,已经提出使用小型微流体设备,因为它们可以利用微电子制造技术而获得。
例如,US 9.174.445公开了一种被设计成用于将油墨热喷射到纸上的微流体设备。
图1示出了用于热喷射油墨和香料的微流体设备10的腔室11,该微流体设备与以上专利中所描述的类似。图1中所展示的腔室11形成在腔室层12中,并且在底部由电介质材料薄层13界定而在顶部由喷嘴板14界定。
喷嘴15形成穿过喷嘴层14并且具有面向腔室11的第一部分15A以及面向相反方向(朝向微流体设备10的外部)的第二部分15B。第一部分15A比第二部分15B明显更宽。加热器20形成在薄层13中,以便与腔室11相邻并且安排在喷嘴15处。加热器20可以具有大约40×40μm2的区域,生成例如3.5μJ能量,并且能够在2μs内达到450℃的最高温度。
腔室11还配备有流体入口21,该流体入口使得液体进入腔室11中并在其中被输送,如箭头L所指示的。多个柱(图1中不可见)可以形成在流体入口21中,并且具有防止粗大颗粒堵塞流体入口21的目的。
在微流体设备10中,腔室11通过流体入口21连接到供应系统(未示出)。
图2A至图2E中示意性地表示了腔室11的操作。液体L通过流体入口21到达腔室11(图2A),形成例如0.3μm厚的液体层16。加热器20将液体层16加热达到预设温度(图2B)。根据所使用的液体选择此温度,以便瞬间达到沸点,例如接近300℃的温度。在这种情形下,压力升高到高水平(例如大约5atm),从而形成蒸汽气泡17,该蒸汽气泡在几微秒(例如,10-15μs)后消失,如图2C至图2D中所展示的。由此生成的压力推送液滴18穿过喷嘴15,在此之后液体层16返回至其初始状态(图2E)。
整个循环每秒重复上万次,由连续到达穿过流体入口21的液体供应。
热喷射设备中使用的许多流体包含倾向于轻易聚合的颜料,很快就造成供应系统堵塞并因此热喷射设备运行故障。
为了克服这一问题,已经提出外部液体移动装置。例如,已经提出泵和压力调节器的外部系统,如图3中所展示的。借助于所展示的系统(以25整体标示),在过滤和压力控制级中不断过滤该液体,以防止堵塞喷嘴15。加热器27具有使该液体保持恒温(例如,40℃)的目的,并且通过泵28由腔室11中的每一个腔室保持在连续循环中。
此外,图3中所展示的系统25生成“弯月面真空”,即,腔室11内部的微负压使喷嘴15保持在最优状态并且准备射出液体。该系统还可以通过脱气器29从该液体中连续地去除气泡。
然而,针对颜料聚合问题的这一解决方案具有需要热喷射设备之外的庞大再循环系统的缺点。此外,它成本很高。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种克服现有技术的缺点的微流体设备,该微流体设备具有防止颜料聚合的简单有效的再循环系统。
根据本实用新型,提供了一种用于热喷射液体的微流体设备,所述微流体设备包括:本体,所述本体形成多个腔室;多个喷嘴,所述多个喷嘴被安排在所述腔室的顶部;多个沟道加热器,所述多个沟道加热器在所述腔室附近;用于所述液体的入口,所述入口连接到所述腔室;以及循环沟道,所述循环沟道集成在所述本体中并且连接到所述液体入口。
所述微流体设备进一步包括液体移动装置,所述液体移动装置耦合到所述循环沟道。
所述液体移动装置包括沟道加热器,所述沟道加热器沿所述循环沟道安排。
所述沟道加热器形成在与所述循环沟道相邻的电绝缘层中。
所述微流体设备进一步包括选择性电连接装置,所述选择性电连接装置被配置成用于将所述沟道加热器耦合到电源发生器或者将所述沟道加热器从电源发生器解耦合。
所述循环沟道沿闭合线延伸。
所述循环沟道围绕所述腔室延伸。
所述微流体设备包括流体路径,所述流体路径在所述液体入口与所述腔室之间延伸,并且形成所述循环沟道的一部分。
所述微流体设备进一步包括流体阻滞器,所述流体阻滞器沿所述循环沟道安排。
所述流体阻滞器与所述液体移动装置相邻。
所述流体阻滞器包括多个壁,所述多个壁延伸穿过所述循环沟道。
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