[实用新型]旋转检测装置和基板清洗设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及半导体技术领域，特别涉及一种旋转检测装置和基板清洗设备。

背景技术

在半导体的制造工艺过程中，通过需将基板放置于各类的加工设备中以对其进行加工制造。而在部分的制程中，需在基板发生旋转的条件下进行加工，以确保制备出的产品的性能。例如，在清洗的制程中，通常采用刷头和高压纯水对基板进行清洗，同时还需使所述基板发生自转，如此一来，不仅可有效提高基板的清洗效果，并且还可避免在基板上出现水痕。

目前的设备中，通过一驱动装置带动所述基板发生旋转，因此，在对设备的性能进行监控时，仅对所述驱动装置是否可正常运行进行检测，进而判断出在加工的过程中，所述基板是否可正常旋转。然而，在实际的运用过程中，所述驱动装置并不是直接作用于所述基板上的，因此，即使所述驱动装置可正常运行，也不能完全确保所述基板可正常发生旋转。即，根据现有的监控方式而得出的监控结果，并不能完全代表设备的性能。在实际的加工过程中，针对基板是否可正常旋转需提供一种有效的监控手段。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种旋转检测装置及基板清洗设备，以解决现有的设备中无法直接对基板是否正常旋转进行监控的问题。

为解决上述技术问题，本实用新型提供一种旋转检测装置，所述旋转检测装置用于监控被检测物是否发生旋转，包括：

一被动部件，所述被动部件与所述被检测物接触，当所述被检测物旋转时带动所述被动部件旋转；

一触发开关，所述触发开关分别连接所述被动部件和一感应部件，当所述被动部件旋转时，所述触发开关打开，所述感应部件执行相应的操作。

可选的，所述被动部件包括一旋转轴和一嵌套于所述旋转轴上的接触件，所述接触件用于与所述被检测物接触，当所述被检测物旋转时带动所述接触件和所述旋转轴旋转。

可选的，所述被动部件还包括一套设于所述旋转轴上的轴承，所述触发开关连接于所述轴承上。

可选的，所述接触件的外侧具有一凹槽，所述凹槽用于与被检测物接触。

可选的，所述接触件为一刷头。

可选的，所述触发开关包括一连接线、一第一导电块和一第二导电块，所述连接线的一端连接至所述被动部件，所述连接线的另一端与所述第一导电块连接，所述第二导电块与所述感应部件连接，当所述被动部件旋转时带动所述连接线移动，使所述第一导电块移动至所述第二导电块并与所述第二导电块接触，所述触发开关打开。

可选的，所述第一导电块为条状结构，所述第二导电块包括两个间隔排列的导体挡块，两个所述导体挡块之间的间隙小于所述第一导电块的长度，所述连接线与所述第一导电块连接后，通过两个所述导体挡块之间的间隙连接于所述被动部件上。

可选的，所述感应部件为包括一电机和一由所述电机驱动的齿轮带，所述电机与所述触发开关连接，当所述触发开关打开时，所述电机驱动所述齿轮带移动，带动所述被动部件旋转。

可选的，所述旋转检测装置还包括一可移动的承载手臂，所述被动部件和所述感应部件均安装于所述承载手臂上。

可选的，所述承载手臂为可移动手臂，所述承载手臂沿着以一固定支点为圆心的弧形方向移动。

本实用新型的又一目的在于提供一种基板清洗设备，包括如上所述的旋转检测装置，所述旋转检测装置的被动部件用于与所述基板的边缘接触。

可选的，所述基板清洗设备还包括至少一个旋转滚轮，当对基板进行清洗时，所述旋转滚轮与所述基板的边缘接触，带动所述基板发生旋转。

可选的，所述基板清洗设备还包括一滑动轨道，所述旋转滚轮沿着所述滑动轨道移动。

可选的，所述基板清洗设备还包括第一清洗刷头和第二清洗刷头，当对基板进行清洗时，所述第一清洗刷头和第二清洗刷头分别位于所述基板的第一表面和与所述第一表面相对的第二表面。

可选的，所述第一清洗刷头和第二清洗刷头均为可沿轴线旋转的圆柱结构，所述圆柱结构的轴线平行于所述基板的表面。

可选的，所述圆柱结构的高度大于等于所述基板的最大尺寸。

可选的，所述基板为晶圆。