[实用新型]一种烹调器的聚能装置及应用该结构的光波烹调器

说明书

技术领域

本实用新型涉及烹调器组件领域，具体为一种烹调器的聚能装置及应用该结构的光波烹调器。

背景技术

烹调器尤其是实用光波作为热源的烹调器，由于光波是向四周发散的，所以需要反射罩来聚能，提高烹调器加热食物的速率。

现有技术中的烹调器，包括烤盘和炉头，炉头通过支撑装置设于烤盘上，通过在烤盘内设置光波管等加热装置对烤盘上的食物进行烤制，一般的会在加热装置后设置由反光材料制成的反射罩来汇集加热装置的能量，现有技术的反射罩一般会制成简单的凹槽，将加热装置设置在凹槽内，这样的反射罩容易造成热量过度集中于烤盘上的某一区域，当用户在烤盘上烤制食物时，会造成烤盘上的食物受热不均，甚至同一块食物也会受热不均，影响食物口感和用户体验。

实用新型内容

本实用新型目的在于提供一种烹调器的聚能装置及应用该结构的光波烹调器。所述聚能装置将加热装置的放射出的热量均匀反射到食物上，让食物能够均匀受热，改善烹调器的使用体验。

为了达到上述目的，本实用新型的技术方案有：

一种烹调器的聚能装置，包括炉头和烤盘，所述炉头设于烤盘上方对烤盘加热，所述炉头内设有加热装置和反射罩；所述加热装置呈环形并置于反射罩内，所述反射罩中部为凸台结构，围绕凸台结构设置有用于容纳环形加热装置的环形凹槽；所述环形凹槽的槽底部为第一反射面，该第一反射面为弧面，围绕环形加热装置的上方设置；所述环形凹槽的槽内侧面为第二反射面，该第二反射面与第一反射面通过一台阶面连接，所述第二反射面呈一斜面，用于将加热装置的热量反射到烤盘的边缘区域。

进一步的，所述加热装置设置在反射罩的下方，其热量一部分直接通过第一反射面反射到烤盘区域，热量的另一部分直接通过第二反射面反射到烤盘的边缘区域。所述反射罩在对应加热装置的安装位置形成凹槽，所述加热装置安装在凹槽内对应反射罩的下方，对于加热装置向上方或侧边散发的热量发射至烤盘上。

进一步的对烤盘解耦股进行了改进，所述烤盘为圆形烤盘，所述烤盘由外向内逐渐向下倾斜，中部为烤盘最低处。烤盘制成圆形，使烤盘更加美观，还能方便用户转动烤盘，提供烹调器的使用体验，倾斜的烤盘改善了烤盘的受热面，使得放置于烤盘上的食物能够更好地接受上方加热装置的烤制，还能够缩小烤盘的尺寸。

优选的，所述加热装置呈圆环状布置，所述反射罩配合其形状设置为圆形。所述加热装置配合圆形烤盘的形状设置为圆环状，方便其对烤盘上的食物进行烤制。

进一步的，所述反射罩的第一反射面向外侧延伸，形成反射罩的侧壁。所述侧壁将加热装置包裹在内，保护加热装置，还能将少量热量反射到烤盘上。

再进一步的，所述反射罩的第二反射面向内延伸连接所述反射罩凸台结构的顶面。使得反射罩连接形成一个整体，方便零件的加工和组装。

再进一步的，所述反射罩内水平设有多个挂钩，所述挂钩均布在反射罩内。加热装置直接挂设在反射罩内，结构简单，方便加热装置的组装；固定在挂钩上的加热装置能够保持水平，均匀的对烤盘上的食物进行烤制。

再进一步的，所述反射罩上设有固定孔，通过所述固定孔固定在炉头内。通过螺栓将反射罩固定在炉头内，固定结构简单，方便反射罩装配和拆卸。

本实用新型还提供一种应用上述聚能装置的光波烹调器，包括炉头、烤盘、底座及支撑装置，所述烤盘安装在底座上，所述炉头中设有加热装置，并通过支撑装置设于烤盘上方对烤盘进行加热；所述炉头内设有上述聚能装置，所述加热装置为光波管。

本实用新型的一种烹调器的聚能装置及应用该结构的光波烹调器，与传统的反射罩相比，改进了传统反射罩的槽式结构，在反射罩内根据光波管的安装位置设置有两个反射面，在光波管上方设有第一反射面，从上方包裹光波管，将光波管向上照射的热量反射到烤盘上；在反射罩对应光波管的内侧设有第二反射面，其与第一反射面通过一连接面连接，第二反射面与烤盘的形状和位置配合，从侧边将光波管照射的热量反射到烤盘边缘，补偿了第一反射面向烤盘上反射热量较少的烤盘边缘区域，使得烤盘上的食物能够均匀受热。

附图说明

图1为所述炉头的爆炸图；

图2为所述反射罩的剖视图；

图3为装有发热管的反射罩的剖视图；

图4为所述光波烹调器的爆炸图；

图5为所述光波烹调器的光波反射示意图。

具体实施方式

结合附图说明本实用新型的一种烹调器的聚能装置及应用该结构的光波烹调器。