[实用新型]一种镀层的X荧光测试装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及检测设备领域，尤其涉及一种镀层的X荧光测试装置。

背景技术

镀层材料的分析是指对镀层和膜的厚度与组分的分析，常用的分析方法有湿化学分析、辉光放电、发射光谱分析(GD-OES)和XRF等。湿化学分析须选择适当的溶剂溶解选定的层，逐层溶解后再进行测定，方法准确但费时费力，特别是溶剂的选择也非易事。GD-OES方法用惰性原子逐层轰击及剥离试样表层，再用发射光谱测定之。这种方法可以实现剖面或逐层分析，但测量的重复性并不理想。X荧光法(XRF)可以非破坏性完成组分和厚度的同时测定，厚度的测量范围视材料和元素而定，通常为1nm-100um。X荧光法分析镀层与常规定量分析相比较，被测元素的特征X射线荧光强度不仅与薄膜中待测元素和基材的组成有关，而且与薄膜的厚度有关，现有的采用X荧光法(XRF)对镀层进行测试的装置，存在直观性、准确性等较差的问题。

实用新型内容

本实用新型的目的就在于提供一种镀层的X荧光测试装置，以解决上述问题。

为了实现上述目的，本实用新型采用的技术方案是这样的：一种镀层的X荧光测试装置，包括测试光路和成像光路，其中，

所述测试光路包括X-ray光管、所述X-ray光管上方设置有X-ray光管压块、下方设置有反射镜，并设置有用于安装反射镜的反射镜安装轴，在所述反射镜下方安装有准直器，所述准直器下方设置有近景LED灯；

所述成像光路包括探测器，所述探测器位于所述反射镜的一侧，还包括固定透镜镜组、可动透镜镜组和CCD，还包括线性步进电机A、直线导轨A、线性步进电机B和直线导轨B，所述线性步进电机A输出转动力矩，驱动固定在可动透镜镜组架上的丝杆螺母A移动，从而带动可动透镜镜组在直线导轨A上移动；所述线性步进电机B输出转动力矩，驱动固定在固定透镜镜组架上的丝杆螺母B移动，从而带动固定透镜镜组在直线导轨B上移动；

所述测试光路和成像光路系统在反射镜以下共轴；

还包括防创板结构，所述防创板结构包括防创板，所述防创板位于整个装置的底部，所述防创板上方设置固定板，所述固定板上设置有光电开关。

作为优选的技术方案：还设置有用于固定反射镜的反射镜压片。

作为优选的技术方案：所述近景LED灯上还设置有近景LED灯罩。

作为优选的技术方案：所述防创板与固定板通过螺钉结构连接。

作为优选的技术方案：所述光电开关通过光电开关支架固定在固定板上。

与现有技术相比，本实用新型的优点在于：

1.整个光路系统包括成像光路和测试光路，两路光学系统在反射镜以下是共轴的，保证X-ray荧光测试点与成像系统中心点为同一点，能实现直观、准确的测试效果；

2.采用两套照明系统，能实现不论近景照明系统还是远景照明系统消除了全景和近景拍摄时的光线不均匀、亮斑、阴影等现象；

3.在安全上采用防创板设计方式，使得仪器具有很高的可靠性；防创板采用四个光电开关方式，防创板上任意一点接触样品，都能触发四个光电开关至少一个动作，使移动停止，结构简单，性能可靠。

附图说明

图1为本实用新型实施例的主视图(A-A剖图)；

图2为本实用新型实施例的仰视图；

图3为右侧视图；

图4为图2的B-B剖视图；

图5为图1的C-C剖视图

图中：1、X-ray光管压块；2、螺钉；3、远景LED灯；4、垫片；5、防创板挡光片；6、远景LED灯支架；7、反射镜；8、X-ray光管；9、CCD；10、丝杆螺母B；11、近景LED灯罩；12、探测器；13、防创板螺柱；14、准直器；15、反射镜安装轴；16、反射镜压片；17、近景LED灯；18、直线导轨B；19、线性步进电机B；20、准直器座；21、固定透镜镜组；22、线性步进电机A；23、可动透镜镜组；24、直线导轨A；25、丝杆螺母A；26、光电开关；27、防创板；28、固定板；29、光电开关支架；30、远景灯窗口；31、照明区域。

具体实施方式

下面将结合附图对本实用新型作进一步说明。

实施例1：

参见图1-5，一种镀层的X荧光测试装置，包括测试光路和成像光路，其中，