[实用新型]一种研磨带

说明书

【技术领域】

本实用新型涉及一种研磨带，尤其涉及一种纳米二氧化硅研磨带。

【背景技术】

研磨带是一种带状的研磨产品，是用静电植砂或者涂覆的方式，将磨料均匀的涂覆在聚酯薄膜带基上，可根据下游不同的用途裁剪成不同的尺寸。按照生产方式的不同可以分为精密研磨带和精密抛光带两大类。精密研磨带的磨料粒度偏大，主要应用的范围在汽车曲轴、凸轮轴的研磨、印刷辊轴类的研磨等这些领域。精密抛光带的磨料粒度较小，主要用在辊类或微型马达的换向器的抛光。现有的研磨带，研磨合格率较低，使用寿命短，并且研磨效果差。

因此，为了解决上述问题，急需一种研磨合格率高、使用寿命长、研磨效果好的研磨带。

【实用新型内容】

本实用新型为了解决现有技术中研磨带的研磨合格率较低，并且使用寿命短、研磨效果差的技术问题，提供一种研磨合格率高、使用寿命长、研磨效果好的研磨带，技术方案如下：

为了达到上述目的，本实用新型实施例提供一种研磨带，包括：基膜层和研磨层，其中，所述研磨层固定于所述基膜层的表面，所述研磨层包括多个二氧化硅磨粒，所述二氧化硅磨粒的粒径在10～1000nm的范围内，并且所述研磨层的厚度为2～15um。

在一些实施例中，所述二氧化硅磨粒的粒径在50～500nm的范围内。

在一些实施例中，所述二氧化硅磨粒的粒径在100～200nm的范围内。

在一些实施例中，所述研磨层的厚度为5～15um。

在一些实施例中，所述研磨层的厚度为5～10um。

在一些实施例中，所述基膜层的表面设置有多个凹槽，所述凹槽相互平行；多个所述二氧化硅磨粒均设置于所述基膜层表面，并且多个所述二氧化硅磨粒均位于所述凹槽的两侧。

在一些实施例中，所述基膜层包括基膜层本体和凸出部，所述凸出部有多个，分别固定于所述基膜层本体的表面，同一表面上相邻的两个所述凸出部之间形成所述凹槽,多个所述凸出部之间相互平行，从而使得多个所述凹槽之间相互平行。

在一些实施例中，所述研磨层中的二氧化硅磨粒均固定于所述凸出部，并且所述二氧化硅磨粒在一个所述凸出部上排成一行。

在一些实施例中，所述研磨层包括第一研磨层和第二研磨层，所述第一研磨层和第二研磨层分别设置于所述基膜层的上下表面；所述第一研磨层中的各个所述二氧化硅磨粒的粒径相等，所述第二研磨层中的各个所述二氧化硅磨粒的粒径相等；并且所述第一研磨层中的二氧化硅磨粒的粒径大于所述第二研磨层中的二氧化硅磨粒的粒径。

在一些实施例中，所述研磨层包括第一研磨层和第二研磨层，所述第一研磨层和第二研磨层分别设置于所述基膜层的上下表面；所述第一研磨层包括第一二氧化硅磨粒和第二二氧化硅磨粒，相邻的两个所述凸出部分别固定有第一二氧化硅磨粒和第二二氧化硅磨粒，并且一个所述凸出部只固定有第一二氧化硅磨粒或第二二氧化硅磨粒中的一种；所述第二研磨层包括第三二氧化硅磨粒和第四二氧化硅磨粒，相邻的两个所述凸出部分别固定有第三二氧化硅磨粒和第四二氧化硅磨粒，并且一个所述凸出部只固定有第三二氧化硅磨粒或第四二氧化硅磨粒中的一种。

在一些实施例中，所述研磨层包括第一研磨层和第二研磨层；所述第一研磨层和第二研磨层分别设置于所述基膜层的上下表面，所述第一研磨层和第二研磨层中二氧化硅磨粒的粒径相等。

在一些实施例中，所述研磨层由配比为10:1～10:3的纳米二氧化硅和聚氨酯(PU)构成。

本实用新型的有益效果是：本实用新型实施例通过使用微乳液法合成的纳米二氧化硅作为磨粒，与现有技术中使用的磨粒相比，其合成工艺较为稳定，而且在合成过程中可以精确地控制粒径在10～1000nm的范围内的预定值，从而使制成的研磨带一致性好且成本更低，并且使得研磨带的研磨合格率高以及使用寿命长。

进一步的，纳米二氧化硅磨粒在研磨金属时，可在金属表面发生化学吸附，形成自润滑的微层结构，对被研磨的金属起到保护作用，在研磨精密金属轴承、齿轮时具有独特的优势，进而使得所述研磨带具有极佳的研磨效果。

【附图说明】

图1为本实用新型实施例中研磨带的结构示意图；

图2为本实用新型实施例中研磨带的结构示意立体图；

图3为本实用新型实施例中研磨带的使用状态参考图；

图4为本实用新型另一实施例中研磨带的结构示意立体图；