[实用新型]一种防噪声保护环有效

专利信息
申请号: 201720194893.7 申请日: 2017-03-01
公开(公告)号: CN206490065U 公开(公告)日: 2017-09-12
发明(设计)人: 李露;袁永斌;宫海龙;廖宝斌 申请(专利权)人: 贵州木弓贵芯微电子有限公司
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L27/02
代理公司: 上海精晟知识产权代理有限公司31253 代理人: 胡志强
地址: 550000 贵州省贵阳市高新技术*** 国省代码: 贵州;52
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摘要:
搜索关键词: 一种 噪声 保护环
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及电子领域,特别涉及一种防噪声保护环。

背景技术

现有的芯片为了抑制衬底耦合噪声以及电容耦合噪声,通常采用物理距离隔离等方法。物理距离隔离其噪声水平随着噪声源与敏感电路的距离增大而下降,但是其付出的代价是芯片面积的增加,成本增加。单保护环隔离,其抑制衬底噪声效果不那么显著。

实用新型内容

为了解决上述问题,本实用新型提供一种防噪声保护环。本技术方案将敏感模块设置在防噪声保护环的P衬底上,P衬底接触与基板连接;通过利用P衬底接触收集P衬底产生的衬底噪声,并将衬底噪声连接到地消除;通过将N阱与电源VDD相连,并将P阱通过P衬底接触接地,使P衬底与N阱形成反偏的PN结,使得P衬底产生的噪声电压很难穿过N阱,进而抑制了P衬底产生衬底噪声;

同时,电路内部模块之间的会产生寄生电容干扰,因此,将P衬底接触通过金属层接地,将寄生电容的噪声直接连接到地消除,避免了寄生电容噪声穿过P衬底到达敏感模块的情况。

本实用新型中的一种防噪声保护环,包括P衬底、N阱、P阱和P衬底接触,所述N阱和P阱分别设置在所述P衬底上,所述N阱与电源VDD相连,所述P阱通过P衬底接触接地,所述P衬底与N阱构成反偏PN结。

上述方案中,所述P衬底接触背向所述P阱的一侧具有金属层,所述金属层覆盖所述P衬底接触。

上述方案中,所述金属层具有若干个,若干个所述金属层沿背向所述P阱的方向依次叠加覆盖。

上述方案中,所述金属层具有通孔,所述通孔具有若干个。

上述方案中,所述P衬底接触具有若干个衬底接触孔,所述衬底接触孔连通所述金属层和所述P阱。

本实用新型的优点和有益效果在于:本实用新型提供一种防噪声保护环,不仅能够同时抑制和消除衬底噪声连接到地消除;还可将寄生电容的噪声直接连接到地消除,避免寄生电容噪声穿过P衬底到达敏感模块的情况,实现了加强抑制和消除衬底噪声,并且无须增加芯片面积,降低了成本;同时还隔断了敏感模块之间的相互影响,并将寄生电容的噪声直接连接到地消除,实现了加强抑制和消除衬底噪声,避免敏感模块之间相互干扰的效果。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型一种防噪声保护环的俯视结构示意图;

图2为图1中A部分的剖面结构示意图;

图3为本实用新型一种防噪声保护环在芯片中的应用的俯视结构示意图;

图4为图3中B部分的剖面结构示意图。

图中:1、P衬底2、N阱 3、P阱 4、P衬底接触

5、金属层 6、敏感模块7、通孔8、衬底接触孔

具体实施方式

下面结合附图和实施例,对本实用新型的具体实施方式作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本实用新型的技术方案,而不能以此来限制本实用新型的保护范围。

如图1和图4所示,本实用新型是一种防噪声保护环,包括P衬底1、N阱2、P阱3和P衬底接触4,N阱2和P阱3分别设置在P衬底1上,N阱2与电源VDD相连,P阱3通过P衬底接触4接地,P衬底1与N阱2构成反偏PN结。

上述技术方案的工作原理是:

敏感模块6设置在防噪声保护环的P衬底1上,P衬底接触4与基板(图中未示出)连接;

防衬底噪声:

1、通过利用P衬底接触4收集P衬底1产生的衬底噪声,P衬底接触4上并联多层金属层5可尽量减小衬底接触的阻值,更有利于衬底噪声连接到地消除;

2、通过将N阱2与电源VDD相连,并将P阱3通过P衬底接触4接地,使P衬底1与N阱2形成反偏的PN结,使得P衬底1产生的噪声电压很难穿过N阱2,进而抑制了P衬底1产生衬底噪声;

防寄生电容噪声:

电路内部模块之间的会产生寄生电容干扰,因此,通过将P衬底接触4接地,将寄生电容的噪声直接连接到地消除,避免了寄生电容噪声穿过P衬底1到达敏感模块6的情况。

优选的,P衬底接触4背向P阱3的一侧具有金属层5,金属层5覆盖P衬底接触4。

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