[实用新型]用于测量轴颈下沉值的桥规有效

专利信息
申请号: 201720174232.8 申请日: 2017-02-24
公开(公告)号: CN206504679U 公开(公告)日: 2017-09-19
发明(设计)人: 姜涛;黄健平;苏艳波;汪森 申请(专利权)人: 广西防城港核电有限公司;中国广核集团有限公司
主分类号: G01B5/00 分类号: G01B5/00;G01B5/06;G01B5/30
代理公司: 深圳市瑞方达知识产权事务所(普通合伙)44314 代理人: 王少虹,纪媛媛
地址: 538001 广西壮族自治区防城港*** 国省代码: 广西;45
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摘要:
搜索关键词: 用于 测量 轴颈 下沉
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种测量装置,尤其涉及一种用于测量轴颈下沉值的桥规。

背景技术

核电站汽轮机是常规岛重要设备,需要定期进行检修。

在汽轮机的检修工作中,需要检查汽轮机各个部件的使用状况,其中包括轴瓦的磨损及轴瓦垫铁和垫片厚度变化。通常,轴瓦的磨损及轴瓦垫铁和垫片厚度变化很难通过肉眼观察出来,即使可以观测出来但是观测结果并不准确。

因此,有必要设计一种专用工具,以能够直观且准确反映出轴瓦的磨损及轴瓦垫铁和垫片厚度变化情况。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题在于,提供一种用于测量轴颈下沉值的桥规。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:提供一种用于测量轴颈下沉值的桥规,包括相对称且以预定夹角相连接的两个支脚,位于两个所述支脚的夹角内侧、设置在两个所述支脚连接处的凸出部;所述凸出部的端面为平面。

优选地,所述预定夹角为钝角。

优选地,两个所述支脚的长度方向位于同一直线。

优选地,所述桥规还包括连接在所述支脚远离另一所述支脚的自由端上的支座;所述支座远离所述支脚的底面为与所述凸出部端面平行的平面。

优选地,两个所述支脚上的所述支座位于同一平面。

优选地,所述支脚包括主体段、自所述主体段一端弯折延伸的第一连接段,所述支座与所述连接段相垂直连接。

优选地,所述主体段的另一端弯折延伸形成与另一所述支脚连接的第二连接段;两个所述支脚的第二连接段相接形成桥规的中间部,所述凸出部设置在所述中间部上。

优选地,所述中间部上设有通孔。

优选地,所述支脚和凸出部为一体结构。

本实用新型的有益效果:用于测量轴颈下沉值,能直观的反映出轴瓦的磨损及轴瓦垫铁和垫片厚度变化的情况;操作简单。

附图说明

下面将结合附图及实施例对本实用新型作进一步说明,附图中:

图1是本实用新型一实施例的桥规的结构示意图;

图2是图1所示桥规的俯视结构示意图。

具体实施方式

为了对本实用新型的技术特征、目的和效果有更加清楚的理解,现对照附图详细说明本实用新型的具体实施方式。

如图1、2所示,本实用新型一实施例的用于测量轴颈下沉值的桥规,包括相对称设置的两个支脚10、凸出部20;两个支脚10以预定夹角相连接形成一体,支脚10用于支撑在下轴承座中分面上。凸出部20位于两个支脚10的夹角内侧,设置在两个支脚10连接处。凸出部20的端面为平面,用于支撑在轴颈上。轴颈包括发电机、汽动机等设备的轴颈。

其中,预定夹角为钝角。

支脚10呈长条状。两个支脚10的长度方向位于同一直线,使得两个支脚10支撑在下轴承座中分面上时,两个支撑点的连线为一直线。

凸出部20可一体形成在两个支脚10之间,从而支脚10和凸出部20为一体结构。凸出部20的端面的粗糙度为不大于1.6μm,以不影响轴颈下沉值的测量。

进一步地,桥规还包括连接在支脚10远离另一支脚10的自由端上的支座30;支座30远离支脚10的底面为与凸出部20端面平行的平面。

每一个支脚10上均设置一个支座30,并且两个支脚10上的支座30位于同一平面。支脚10通过支座30的底面平稳抵接在下轴承座中分面上。

支座30的底面的粗糙度不大于1.6μm。支座30的外周形状不限定,如可以是矩形等多边形,也可以是圆形等。

具体地,支脚10可包括主体段11、自主体段11一端弯折延伸的第一连接段12,支座30与第一连接段12相垂直连接。

主体段11的另一端弯折延伸形成与另一支脚10连接的第二连接段13;两个支脚10的第二连接段13相接形成桥规的中间部,凸出部20设置在中间部上。

另外,中间部上可设有通孔40,可用于桥规的悬挂存放、定位等。

本实用新型的桥规的整体材料一致,并且以至少能够在0-50℃下工作,长时间使用、存放无变形情况的材料制成。

本实用新型的桥规测量时,将两个支脚10通过支座30放在下轴承座中分面上,用塞尺测量轴颈与凸出部20之间的间隙,获得轴颈的下沉值,用以监视轴瓦的磨损及轴瓦垫铁和垫片厚度变化的情况。

以上所述仅为本实用新型的实施例,并非因此限制本实用新型的专利范围,凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。

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