[实用新型]一种PMOLED和PMLCD有效

专利信息
申请号: 201720132534.9 申请日: 2017-02-14
公开(公告)号: CN206584328U 公开(公告)日: 2017-10-24
发明(设计)人: 赵云;罗志猛;刘然;张为苍 申请(专利权)人: 信利光电股份有限公司
主分类号: G06F3/041 分类号: G06F3/041
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司44102 代理人: 邓义华,陈卫
地址: 516600 广东省汕尾*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 pmoled pmlcd
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及显示领域,尤其涉及一种PMOLED和PMLCD。

背景技术

PMOLED(无源驱动OLED)和PMLCD(无源驱动LCD)如果想增加触控功能的话,一般采用两种方式:一种是外加触控屏的形式,但是这种方式会导致PMOLED和PMLCD的厚度增加;另外一种方式,采用On-cell方案,即将触控层制作在PMOLED的出光面的玻璃基板外侧或者PMLCD的上基板和上偏光片之间,但是On-cell存在因划伤触控层等原因导致的良率低的问题。在AMOLED(有源驱动OLED)和AMLCD(有源驱动LCD)中还存在一种In-cell方案,即将触控层与TFT层制作在同一层,共面走线,但是这种方案并不适用于PMOLED和PMLCD,因为触控层会造成阳极层的走线空间狭窄,影响阳极层的空间排布及像素的开口率,而且阳极层也会对触控层造成干扰。并且In-cell方案对工艺的要求极高且良率低,而PMOLED和PMLCD对价格极为敏感。

实用新型内容

为了解决上述现有技术的不足,本实用新型提供一种PMOLED和PMLCD。该PMOLED和上PMLCD将透明触控层和阳极层分层制作,并用透明绝缘层隔开,形成一种新的In-cell结构,成本低、良率高,且透明触控层不会影响到阳极层的空间排布和像素的开口率。

本实用新型所要解决的技术问题通过以下技术方案予以实现:

一种PMOLED,包括相对设置的第一基板和第二基板,所述第一基板和第二基板之间通过密封胶固定密封,所述第一基板面向所述第二基板的一侧设置有PMOLED器件,所述PMOLED器件的出光方向面向所述第一基板,所述PMOLED器件和第一基板之间设置有透明触控层,所述透明触控层和PMOLED器件之间设置有透明绝缘层,所述透明触控层在显示区域外通过所述透明绝缘层上的过孔绑定有IC和FPC。

进一步地,所述透明触控层为金属材质。

进一步地,所述金属材质为Mo、或Ag、或ITO。

进一步地,所述透明绝缘层为无机氧化物材质、或无机氮化物、或无机氮氧化合物。

进一步地,所述无机氧化物为氧化硅、所述无机氮化物为氮化硅、所述无机氮氧化合物为氮氧化硅。

一种PMLCD,包括相对设置的上基板和下基板,所述上基板和下基板通过密封胶固定密封,且所述上基板和下基板之间填充有液晶材料,所述下基板面向液晶材料的一侧设置有阴极层,所述上基板面向所述下基板的一侧设置有阳极层,所述下基板和阳极层之间设置有透明触控层,所述透明触控层和阳极层之间设置有透明绝缘层,所述透明触控层在显示区域外通过所述透明绝缘层上的过孔绑定有IC和FPC。

进一步地,所述透明触控层为金属材质。

进一步地,所述金属材质为Mo、或Ag、或ITO。

进一步地,所述透明绝缘层为无机氧化物材质、或无机氮化物、或无机氮氧化合物。

进一步地,所述无机氧化物为氧化硅、所述无机氮化物为氮化硅、所述无机氮氧化合物为氮氧化硅。

本实用新型具有如下有益效果:该PMOLED和上PMLCD将透明触控层和阳极层分层制作,并用透明绝缘层隔开,形成一种新的In-cell结构,成本低、良率高,且透明触控层不会影响到阳极层的空间排布和像素的开口率。

附图说明

图1为本实用新型提供的PMOLED的示意图;

图2为本实用新型提供的PMLCD的示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型进行详细的说明。

实施例一

如图1所示,一种PMOLED,包括相对设置的第一基板1和第二基板2,所述第一基板1和第二基板2之间通过密封胶3固定密封,所述第一基板1面向所述第二基板2的一侧设置有PMOLED器件4,所述PMOLED器件4的出光方向面向所述第一基板1,所述PMOLED器件4和第一基板1之间设置有透明触控层5,所述透明触控层5和PMOLED器件4之间设置有透明绝缘层6,所述透明触控层5在显示区域外通过所述透明绝缘层6上的过孔绑定有IC 7和FPC 8。

该PMOLED将所述透明触控层5单独作为一层制作在所述第一基板1和PMOLED器件4之间,并用所述透明绝缘层6隔开,形成一种新的In-cell结构,成本低、良率高,且所述透明触控层5不会影响到所述PMLED器件内的透明阳极层41的空间排布和像素的开口率。

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