[实用新型]一种土霉素结晶母液膜法回收装置有效

专利信息
申请号: 201720085252.8 申请日: 2017-01-23
公开(公告)号: CN206417943U 公开(公告)日: 2017-08-18
发明(设计)人: 康辉;肖仕才 申请(专利权)人: 同舟纵横(厦门)流体技术有限公司
主分类号: C02F9/04 分类号: C02F9/04
代理公司: 厦门律嘉知识产权代理事务所(普通合伙)35225 代理人: 张辉,温洁
地址: 361000 福建省厦门市火炬高新*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 土霉素 结晶 母液 回收 装置
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及土霉素制备领域,特别涉及一种土霉素结晶母液膜法回收装置。

背景技术

土霉素结晶母液中含有大量草酸、一定量的土霉素和蛋白、色素、糖等成分,其中土霉素具有较高经济价值,如果当成污水排放,不仅给污水处理带来很大困难,同时也造成大量资源浪费;若回收结晶母液中的有效成分,则可减轻后续污水处理的负担,并提高其经济附加经济价值。

发明内容

针对上述问题,本实用新型的目的在于提供一种可以有效回收土霉素结晶母液中的土霉素同时降低废水处理的土霉素结晶母液膜法回收装置。

为达到上述目的,本实用新型所提出的技术方案为:一种土霉素结晶母液膜法回收装置,其特征在于:包括依次相连的土霉素结晶母液罐、初滤装置、超滤膜分离装置;所述的超滤膜分离装置的透析液出口连接纳滤膜浓缩装置,浓缩液出口连接沉淀池;所述的纳滤膜浓缩装置浓缩液出口连接土霉素浓缩液罐;所述的土霉素结晶母液罐上连接有pH调节装置。

优选的,所述的初滤装置为袋式过滤器或熔铸式过滤器。

优选的,所述的超滤膜分离装置内的超滤膜切割分子量为2000-5000道尔顿,优选为3000道尔顿。

优选的,所述的超滤膜为卷式超滤膜、管式超滤膜、陶瓷超滤膜或中空纤维超滤膜。

优选的,所述的纳滤膜浓缩装置内的纳滤膜为卷式纳滤膜,其切割分子量为150-200道尔顿。

优选的,所述的纳滤膜浓缩装置的透析液出口连接废水处理系统。

采用上述技术方案,本实用新型所述的土霉素结晶母液膜法回收装置,用于土霉素结晶母液的回收,通过初滤过滤、超滤除杂和纳滤纳滤浓缩,可以有效回收土霉素结晶母液中的土霉素,同时经过纳滤处理后的透析液中有机物质低,可降低后续废水处理成本,达到了减排的目的。

附图说明

图1为本实用新型所述的土霉素结晶母液膜法回收装置示意图。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施方式,对本实用新型做进一步说明。

如图1所示,本实用新型所述的土霉素结晶母液膜法回收装置,包括依次相连的土霉素结晶母液罐101、初滤装置102、超滤膜分离装置103;所述的超滤膜分离装置103的透析液出口连接纳滤膜浓缩装置104,浓缩液出口连接沉淀池105;所述的纳滤膜浓缩装置104浓缩液出口连接土霉素浓缩液罐106;所述的土霉素结晶母液罐101上连接有pH调节装置107。

优选的,初滤装置102为袋式过滤器或熔铸式过滤器;超滤膜分离装置104内的超滤膜切割分子量为2000-5000道尔顿,优选为3000道尔顿;超滤膜为卷式超滤膜、管式超滤膜、陶瓷超滤膜或中空纤维超滤膜;纳滤膜浓缩装置104内的纳滤膜为卷式纳滤膜,其切割分子量为150-200道尔顿。

优选的,所述的纳滤膜浓缩装置的透析液出口连接废水处理系统108。

具体使用时,本实用新型所述的土霉素结晶母液回收装置用于土霉素结晶母液处理时,包括如下步骤:

步骤1:土霉素结晶母液收集于土霉素结晶母液罐内,由于土霉素等电结晶点在4.5-4.7,通过pH调节装置使用浓氨水调节土霉素结晶母液pH至7-8,防止在后续膜浓缩过程中出现土霉素结晶析出现象;

步骤2:pH调节后的土霉素结晶母液进入初滤装置中经过初滤装置过滤,初滤装置优选为袋式过滤器或熔铸式过滤器,确保物料中没有悬浮物杂质后,进入超滤膜分离装置中;

步骤3:土霉素结晶母液经过超滤膜分离装置过滤,除去料液中大分子蛋白、使料液中土霉素溶解度增加;超滤膜切割分子量为2000-5000道尔顿,优选为3000道尔顿,操作压力在12-15bar,操作温度在20-42℃;土霉素透过超滤膜,超滤透析液中的土霉素的效价由400mg/ml左右,大分子杂质等则被超滤膜截留,收集于浓缩池内,可以用于液体有机肥料;

步骤4:含有土霉素的超滤透析液经过纳滤膜浓缩装置浓缩,将土霉素效价由400mg/ml上升至4000mg/ml以上,纳滤膜操作压力为20-30bar,操作温度20-42℃;纳滤透析液中土霉素效价为20mg/L以下,纳滤透析液可以作为废水排放至生化系统进一步处理。

尽管结合优选实施方案具体展示和介绍了本实用新型,但所属领域的技术人员应该明白,在不脱离所附权利要求书所限定的本实用新型的精神和范围内,在形式上和细节上对本实用新型做出各种变化,均为本实用新型的保护范围。

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