[实用新型]一种全封闭式磁流变抛光头

说明书

技术领域

本实用新型属于磁流变抛光装置技术领域，具体涉及一种全封闭式磁流变抛光头。

背景技术

磁流变抛光技术是近十多年来得以迅猛发展的一种确定性子口径抛光技术，它主要利用磁流变抛光液的可控流变特性进行加工，具有极高的加工精度、极高的收敛效率与极低的表面缺陷等显著特点，能够高效率、低成本地解决平面、球面，特别是非球面的超精密加工难题。磁流变抛光头是磁流变抛光工艺装备中的核心功能部件之一，其主要作用是保证磁流变抛光液在磁场作用下形成“柔性流变带”。

目前对大口径光学元件的工程抛光设备中，目前报道的磁流变抛光头，都采用开放式，即磁路通过支撑结构从抛光轮的一侧或两侧的开口伸入抛光轮内部空腔中。如国防科学技术大学名称为《用于大口径非球面光学零件的磁流变抛光装置》的中国专利（专利公开号：CN 101249626A）；名称为《用于高陡度光学零件的磁流变抛光装置》的中国专利（专利公开号：CN 101323098A）；QED公司的名称为《用于基材的磁流变抛光的系统》的专利（授权公告号：CN102341216B），包括市场上商品化的QED系列化磁流变抛光机等用于确定性抛光的机床中配备的抛光头全部采用开放式结构。

开放式磁流变抛光头结构设计与安装比较简单，但是使用中存在一些问题。使用时抛光轮是转动的，而磁路相对不动，因而两者之间会有间隙，由于抛光轮内磁场的作用，导磁性抛光液极容易进入抛光轮内部，而且抛光轮内部空间十分狭小，进入其中的抛光液很难清理干净，导磁的抛光液一旦进入对磁路中就会改变原来的磁路构成，造成抛光区磁场的变化，影响抛光工艺稳定性。另外，其他杂物，尤其是导磁性物质，进入抛光轮内部的可能性也很大，这些物质会卡在抛光轮与磁极之间的微小间隙中，造成抛光轮的损坏。

发明内容

为了克服已有技术中抛光头容易进入抛光液等杂物，引起抛光工艺不稳定或抛光轮损坏的不足，本实用新型提供一种全封闭式磁流变抛光头结构。本实用新型的抛光头具有全封闭式结构特点，可有效防止杂物进入抛光轮内部，而且整个结构比开放式抛光头更简单。

本实用新型的技术方案如下：

本实用新型的全封闭式磁流变抛光头，其特点是，所述的全封闭式磁流变抛光头含有密封盖、磁路、轴承、抛光轮、端盖、螺母、带轮、支座、转轴。其连接关系是, 所述的轴承的外圈安装在抛光轮底部的轴承孔中，并通过端盖压紧。转轴安装在轴承的内圈，并通过螺母压紧。密封盖通过螺钉固定安装在抛光轮的口部，磁路设置于密封盖与抛光轮构成的封闭空间内，并通过螺钉安装在转轴的左端。带轮通过螺钉固定安装在端盖上，用于带动端盖、抛光轮的转动。支座的一端通过螺钉固定安装在转轴的右端，支座的另一端外接于抛光机床上。所述的密封盖、轴承、抛光轮、带轮、转轴为同轴线设置。

其中“带轮通过螺钉固定安装在端盖上，用于带动端盖、抛光轮的转动”，采用如下内容替换：“带轮通过螺钉安装在抛光轮底部，用于带动抛光轮的转动”。

其中“带轮通过螺钉固定安装在端盖上，用于带动端盖、抛光轮的转动，采用如下内容替换：“带轮通过螺钉安装在密封盖的侧面，用于带动密封盖、抛光轮的转动”。

本实用新型将能够转动的密封盖、抛光轮、带轮、端盖与轴承外圈固定联接，固定不动的磁路、转轴、螺母、支座与轴承的内圈固定联接；密封盖和抛光轮将磁路完全封闭在抛光轮内部。

本实用新型的有益效果是,能够有效防止抛光液或其他杂物进入抛光轮内腔，可大大提高抛光头运行时的安全性和工艺稳定性。而且抛光头只需通过一个支座安装在机床上，简化了抛光头的结构及其与机床的安装接口。

附图说明

图1为本实用新型的全封闭式磁流变抛光头实施例1的结构示意图；

图2为本实用新型的实施例2的结构示意图；

图3为本实用新型的实施例3的结构示意图；

图中，1.密封盖2.磁路3.轴承4.抛光轮5.端盖6.螺母7.带轮8.支座9.转轴。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型进行进一步的详细描述：

实施例1

图1为本实用新型的全封闭式磁流变抛光头实施例1的结构示意图。在图1中，本实用新型的全封闭式磁流变抛光头包括轴承3，以及与轴承3外圈固定联接的能够转动的密封盖1、抛光轮4、带轮7、端盖5，还包括与轴承3的内圈固定联接的磁路2、转轴9、螺母6、支座8；密封盖1和抛光轮4将磁路2完全封闭在抛光轮4内。