[发明专利]一种水下转台

说明书

技术领域

本发明涉及水下回转设备技术领域，具体是涉及一种水下转台。

背景技术

进行水面活动或者作业的水上设备通常需要安装在水下回转设备上，有些水上设备对水下回转设备的旋转精度要求很高。目前，水下回转设备的旋转部件和固定部件之间通常为面接触，不但需要较大的驱动力以克服旋转接触面之间的摩擦力，而且由于水下回转设备长期处于水下，旋转接触面在水气作用下容易生锈，使得水下回转设备的旋转精度变差，而且，需要更大的驱动力才能实现旋转，因此，水下回转设备在长时间放置水下后，其旋转精度很难达到高精度和旋转均匀性的要求，难以保障水上设备的长期使用需求。

发明内容

针对现有技术中存在的缺陷，本发明的目的在于提供一种水下转台，旋转平台和工作平台之间设置有多个滚动体，以点接触或者线接触取代旋转接触面，极大地降低了工作平台表面生锈对旋转平台和工作平台之间接触的影响，从而提高旋转平台的旋转精度和旋转均匀性，保障水上设备的长期使用需求。

本发明提供一种水下转台，其包括：

底座，其固定于水底；

工作平台，其设于所述底座上，所述工作平台具有密闭的内部空腔；

旋转平台，其设于所述工作平台上方，所述旋转平台和工作平台通过多个滚动体滚动接触；

销轴，其安装在所述工作平台上，所述销轴的一端从所述工作平台顶部向外伸出，并与所述旋转平台相连；

驱动装置，其设于所述内部空腔中并与所述销轴连接，所述驱动装置通过所述销轴带动所述旋转平台旋转。

在上述技术方案的基础上，所述滚动体包括支座和滚动件，所述支座固定在所述工作平台底部，所述滚动件安装在所述支座上，并与所述工作平台顶部滚动接触。

在上述技术方案的基础上，所述滚动件为滚轮。

在上述技术方案的基础上，所述驱动装置包括电动机和齿轮传动机构。

在上述技术方案的基础上，所述销轴的下端设有编码器。

在上述技术方案的基础上，所述工作平台包括从上到下依次相连的顶板、中间腔体结构和下腔体结构，所述顶板、中间腔体结构和下腔体结构共同围成所述内部空腔，所述顶板上设有连通所述内部空腔的销轴孔，所述销轴安装在所述销轴孔中并与所述销轴孔的孔壁密封。

在上述技术方案的基础上，所述底座包括固定平台和固定于水底的多个水工桩，多个所述水工桩间隔地固定在所述固定平台外周，所述固定平台为开口的箱体结构，所述工作平台设于所述箱体结构内部。

在上述技术方案的基础上，所述水下转台还包括护筒，所述固定平台和所述工作平台均设置于所述护筒内，且所述工作平台的顶部露出所述护筒外部。

在上述技术方案的基础上，所述工作平台和所述底座通过升降机构相连。

在上述技术方案的基础上，所述升降机构包括液压缸和液压站，所述液压缸的活动端连接底座，所述液压缸的固定端连接所述工作平台。

与现有技术相比，本发明的优点如下：

(1)旋转平台和工作平台之间设置有多个滚动体，以点接触或者线接触取代旋转接触面，极大地降低了工作平台表面生锈对旋转平台和工作平台之间接触的影响，从而提高旋转平台的旋转精度和旋转均匀性，保障水上设备的长期使用需求。

(2)旋转平台和工作平台之间设有多个滚动体，能有效减小旋转平台旋转时受到的摩擦力，从而降低驱动旋转平台旋转所需的扭矩，因此可以采用更加精密的电动机和传动齿轮来提高旋转精度。

(3)销轴的底部安装有编码器，驱动装置通过编码器的反馈信号反馈调节，可以进一步提高旋转精度。

(4)旋转平台通过液压缸实现升降，使得旋转平台距水面的距离可以根据需要调节，以满足水位发生变化以及不同使用工况要求。

附图说明

图1是本发明实施例水下转台的结构示意图；

图2是底座的俯视图；

图3是底座中固定平台的结构示意图；

图4是工作平台的结构示意图；

图5是旋转平台的结构示意图；

图6是传动机构的结构示意图。

图中：