[发明专利]大面积CVD石墨烯掺杂转移方法有效
| 申请号: | 201711469892.X | 申请日: | 2017-12-29 |
| 公开(公告)号: | CN108101027B | 公开(公告)日: | 2020-01-31 |
| 发明(设计)人: | 马金鑫;姜浩;徐鑫 | 申请(专利权)人: | 重庆墨希科技有限公司 |
| 主分类号: | C01B32/182 | 分类号: | C01B32/182;C01B32/184;C01B32/194 |
| 代理公司: | 51232 成都点睛专利代理事务所(普通合伙) | 代理人: | 刘文娟 |
| 地址: | 401329 重*** | 国省代码: | 重庆;50 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 掺杂 石墨烯层 石墨烯 复合结构 吸收层 掺杂剂 支撑层 衬底 催化 浸泡 破损 清洗烘干 石墨烯膜 效果稳定 支撑保护 目标基 保证 | ||
1.大面积CVD石墨烯掺杂转移方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1.在催化衬底(101)上生成通过化学键链接的具有二维连续结构的CVD石墨烯层(201),得到催化衬底(101)、CVD石墨烯层(201)的复合结构;
S2.在步骤S1所述CVD石墨烯层(201)上形成掺杂剂吸收层(301),得到催化衬底(101)、CVD石墨烯层(201)、掺杂剂吸收层(301)的复合结构;
S3.在步骤S2所述掺杂剂吸收层(301)上形成转移支撑层(302),得到催化衬底(101)、CVD石墨烯层(201)、掺杂剂吸收层(301)、转移支撑层(302)的复合结构;
S4.分离催化衬底(101),得到CVD石墨烯层(201)、掺杂剂吸收层(301)、转移支撑层(302)的复合结构;
S5.将步骤S4得到的CVD石墨烯层(201)、掺杂剂吸收层(301)、转移支撑层(302)的复合结构旋转180°放置到目标基底(401)上,得到CVD石墨烯层(201)、掺杂剂吸收层(301)、转移支撑层(302)、目标基底(401)的复合结构;
S6.将步骤S5得到CVD石墨烯层(201)、掺杂剂吸收层(301)、转移支撑层(302)、目标基底(401)的复合结构浸泡于掺杂剂水溶液中;
S7.将经过步骤S6处理过的CVD石墨烯层(201)、掺杂剂吸收层(301)、转移支撑层(302)、目标基底(401)的复合结构清洗吹干;
所述步骤S2中的掺杂剂吸收层(301)为有机聚合物层,所述掺杂剂吸收层(301)包括亲水性侧基或亲水主链结构,使得有机层本身能够被水溶胀;所述亲水性侧基包括羟基、羧基、酰胺基、酰马琳基;所述亲水主链为聚环氧乙烷;
步骤S3中所述转移支撑层(302)材料是主链具有疏水芳环结构的聚合物,所述聚合物为聚对二甲苯、聚3-氯对二甲苯、聚2,5-二氯对二甲苯或聚氟代对二甲苯或者它们任意2-4种的共聚物。
2.如权利要求1所述的大面积CVD石墨烯掺杂转移方法,其特征在于:所述的掺杂剂吸收层(301)还具有化学交联结构,交联度为40-60%。
3.如权利要求2所述的大面积CVD石墨烯掺杂转移方法,其特征在于:所述掺杂剂吸收层(301)在水溶液中的饱和溶胀度为1-10%。
4.如权利要求3所述的大面积CVD石墨烯掺杂转移方法,其特征在于:所述掺杂剂吸收层(301)厚度为0.1-3μm。
5.如权利要求4所述的大面积CVD石墨烯掺杂转移方法,其特征在于:所述掺杂剂吸收层(301)主要成分为水性聚合物和交联剂。
6.如权利要求1所述的大面积CVD石墨烯掺杂转移方法,其特征在于:步骤S3中所述转移支撑层(302)形成方法为低温化学气相沉积法。
7.如权利要求1所述的大面积CVD石墨烯掺杂转移方法,其特征在于:步骤S3中所述转移支撑层(302)沉积厚度为0.5-5μm;所述步骤S3中的转移支撑层(302)的水汽透过率≤1g/m2·day。
8.如权利要求1所述的大面积CVD石墨烯掺杂转移方法,其特征在于:步骤S5中所述掺杂剂吸收层(301)在掺杂剂水溶液中的溶胀度为0.1-1%。
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