[发明专利]遮光胶带、其制备方法及包括其的电子设备

说明书

本发明公开了一种遮光胶带、其制备方法及包括其的电子设备。其中，该遮光胶带包括：离型膜；防窥结构层，设置在离型膜上，包括相互嵌入设置的多个透明梯形结构和多个遮光梯形结构；以及遮光层，通过胶层贴合在防窥结构层上；其中，遮光梯形结构的高为8～12μm、上底宽为0.08～0.15μm、下底宽为0.18～0.25μm、两个遮光梯形结构下底的间距为0.5～1μm。光线经过此特殊尺寸及结构的防窥结构层后，光线视角减小，同时光线部分被吸收，到达遮光层时，光线全部被吸收，从而达到提高遮光胶带的遮光性能的目的。

技术领域

本发明涉及显示屏技术领域，具体而言，涉及一种遮光胶带、其制备方法及包括其的电子设备。

背景技术

有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)又称为有机电激光显示、有机发光半导体。OLED显示技术具有自发光、广视角、几乎无穷高的对比度、较低耗电、极高反应速度等优点。

目前，OLED显示技术发展迅速，被广泛应用于手机技术。在OLED手机中，由于基底为玻璃或者PI(聚酰亚胺)，有漏光的风险，因此在设计过程中，会在手机屏幕后面增加一层遮光胶带，以增加屏幕的对比度。

目前的遮光胶带多采用在黑色PET(聚对苯二甲酸乙二酯)上涂布PSA(pressuresensitive adhesive，压敏胶)，贴在OLED屏幕后面。另外一种方式是在透明PET上涂布黑色油墨，然后在PET上涂布PSA，贴在OLED屏幕后面。由于采用的PET厚度较薄，采用这两种方式仍有部分光线透过，对比度下降，遮光胶带的遮光性能有待进一步提高。

发明内容

本发明旨在提供一种遮光胶带、其制备方法及包括其的电子设备，以提高现有技术中遮光胶带的遮光性能。

为了实现上述目的，根据本发明的一个方面，提供了一种遮光胶带。该遮光胶带包括：离型膜；防窥结构层，设置在离型膜上，包括相互嵌入设置的多个透明梯形结构和多个遮光梯形结构；以及遮光层，通过胶层贴合在防窥结构层上；其中，遮光梯形结构的高为8～12μm、上底宽为0.08～0.15μm、下底宽为0.18～0.25μm、两个遮光梯形结构下底的间距为0.5～1μm；优选的，遮光梯形结构的高为10μm、上底宽为0.1μm、下底宽为0.2μm、两个遮光梯形结构下底的间距为0.5μm。

进一步地，离型膜的剥离力为15～30gf，优选为25gf。

进一步地，遮光层通过PSA胶层贴合在防窥结构层上。

进一步地，防窥结构层中的透明梯形结构材质为PSA。

进一步地，防窥结构层中的遮光梯形结构材质为黑色油墨。

进一步地，遮光层为黑色PET层。

根据本发明的另一方面，提供了一种上述任一种遮光胶带的制备方法。该制备方法包括以下步骤：提供离型膜；在离型膜上涂布8～12μm的透明胶层，然后将具有梯形结构的母模贴合至透明胶层上，剥离母模在透明胶层形成多个梯形凹槽，在梯形凹槽中填充遮光材料，形成防窥结构层；以及在防窥结构层上贴合遮光层；其中，遮光梯形结构的高为8～12μm、上底宽为0.08～0.15μm、下底宽为0.18～0.25μm、两个遮光梯形结构下底的间距为0.5～1μm。

进一步地，离型膜的剥离力为15～30gf；母模的离型力为5～15gf，离型膜的剥离力大于母模的离型力，且差值大于10gf；优选的，离型膜的剥离力为25g，母模的离型力为10gf。

进一步地，遮光层通过PSA胶层贴合在防窥结构层上。

进一步地，透明胶层为PSA涂层，遮光材料为黑色油墨。

进一步地，遮光层为黑色PET层。