[发明专利]一种高粗糙度电解铜箔及其制备方法在审
| 申请号： | 201711460411.9 | 申请日： | 2017-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN108179460A | 公开（公告）日： | 2018-06-19 |
| 发明（设计）人： | 涂毕根;卢佑俊;马立超;周艾龙;周大山 | 申请（专利权）人： | 湖北中科铜箔科技有限公司 |
| 主分类号： | C25F3/02 | 分类号： | C25F3/02;C25D3/22;C25D7/06 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 432000 湖北省孝*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光面 毛面 铜处理 电解铜箔 高粗糙度 镀锌处理 钝化处理 烘干处理 粗化 刷辊 酸洗 铜箔 制备 固化 无纺布 粘合 | ||
1.一种高粗糙度电解铜箔，其特征在于，所述电解铜箔包括光面和毛面，所述光面和毛面均与无纺布粘合。
2.如权利要求1所述的高粗糙度电解铜箔的制备方法，其特征在于，所述方法包括：
第一阶段：
步骤1：对铜箔的毛面使用抛刷辊进行抛刷处理；
步骤2：对毛面进行酸洗；
步骤3：对毛面进行粗化铜处理；
步骤4：对毛面进行固化铜处理；
步骤5：对毛面进行镀锌处理；
步骤6：对毛面进行钝化处理；
步骤7：对毛面进行烘干处理；
第二阶段：
步骤1：对铜箔的光面使用抛刷辊进行抛刷处理；
步骤2：对光面进行酸洗；
步骤3：对光面进行粗化铜处理；
步骤4：对光面进行固化铜处理；
步骤5：对光面进行镀锌处理；
步骤6：对光面进行钝化处理；
步骤7：对光面进行烘干处理。
3.如权利要求2所述的高粗糙度电解铜箔的制备方法，其特征在于，所述对铜箔的毛面使用抛刷辊进行抛刷处理和对铜箔的毛面使用抛刷辊进行抛刷处理的过程中，采用的抛刷辊型号为400#～1000#。
4.如权利要求3所述的高粗糙度电解铜箔的制备方法，其特征在于，所述对毛面进行酸洗和对光面进行酸洗过程中，采用的电解溶液中：Cu2+浓度≤10g/L、H2SO4浓度范围为100g/L～200g/L、溶液温度20～40℃。
5.如权利要求4所述的高粗糙度电解铜箔的制备方法，其特征在于，所述对毛面进行粗化铜处理和对光面进行粗化铜处理的过程中，采用的电解溶液中：Cu2+浓度为9g/L～15g/L、H2SO4浓度范围为120g/L～200g/L、溶液温度为25～35℃，电流密度为1500～3700A/㎡。
6.如权利要求5所述的高粗糙度电解铜箔的制备方法，其特征在于，所述对毛面进行固化铜处理和对光面进行固化铜处理的过程中，采用的电解溶液中：Cu2+浓度40g/L～65g/L、H2SO4浓度范围为90g/L～130g/L、溶液温度40～60℃，电流密度1500～3000A/㎡。
7.如权利要求6所述的高粗糙度电解铜箔的制备方法，其特征在于，所述对毛面进行固化铜处理和对光面进行固化铜处理的过程中，采用的电解溶液中：Zn2+浓度范围为4g/L～5g/L、K4P2O7浓度范围为150g/L～170g/L、PH值9～12、溶液温度20～50℃，电流密度50～100A/㎡。
8.如权利要求7所述的高粗糙度电解铜箔的制备方法，其特征在于，所述对毛面进行钝化处理和对光面进行钝化处理的过程中，采用的电解溶液中Cr6+浓度为1g/L～2.5g/L、PH值为10～12、溶液温为20～40℃，电流密度100～400A/㎡。
9.如权利要求8所述的高粗糙度电解铜箔的制备方法，其特征在于，所述对毛面进行烘干处理和对光面进行烘干处理的温度为200℃～300℃。
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