[发明专利]一种退铬液及其制备方法与应用

说明书

本发明属于真空镀技术领域，具体公开了一种退铬液及其制备方法与应用；尤其是在真空镀铬层中的退铬应用。该退铬液包括氧化剂、促进剂、稳定剂、缓蚀剂以及水配制，应用时退铬液的温度为20～70℃，退铬速度1～2μm/min。本发明不但退铬时间比同类产品缩短50％以上，且退镀干净而不伤基材，尤其是低温条件下仍具有优良的的退铬效果，减小了对环境的污染。

技术领域

本发明属于真空镀技术领域，具体涉及一种退铬液及其制备方法与应用，该退铬液能快速退除工件上的真空镀铬层。

背景技术

铬镀层具有优良的装饰性能和功能性能，真空镀铬是在真空条件下，通过蒸馏或溅射等方式将铬沉积在工件表面。真空镀铬相比传统湿法镀铬具有明显的优越性：真空镀铬层不仅附着力更好、致密度更高，而且具有优良的硬度及耐蚀性能，可以得到很薄的表面铬镀层。由于铬是在真空环境下通过等离子体沉积在工件表面，所以避免了生产及废液处理过程中造成的环境污染。因此，真空镀铬在高科技产业化的发展中得到广泛应用。

镀铬工件在使用完毕或发现有瑕疵时通常需要进行退镀。目前，工业上主要使用电解法和化学法两种方法进行退镀铬。其中电解法由于不仅需要外加直流电源，工艺相对复杂；而且受电力线分布不均匀的影响，对工件难以均匀退镀，尤其对几何形状复杂的工件难有良好的退镀效果，因而更倾向于使用化学法。但是现有化学法还存在一些不足，比如：退铬速度缓慢、难以退镀干净及环境污染大的问题，严重影响了工业生产效率。

发明内容

为了解决上述问题，本发明的目的之一在于提供一种快速高效退铬的化学退铬液。

本发明的目的之二是提供了所述退铬液的制备方法，该方法简单易控，易于产业化。

本发明的目的之三是提供了所述退铬液的应用和具体应用方法，尤其是应用在真空镀技术领域中，快速退工件上的真空镀铬层。

本发明是通过以下技术方案来实现的：

一种退铬液，包括氧化剂、促进剂、稳定剂、缓蚀剂以及水；所述氧化剂在退铬液中的含量为200～300g/L，所述促进剂在退铬液中的含量为5～20g/L，所述稳定剂在退铬液中的含量为20～50g/L，所述缓蚀剂在退铬液中的含量为0.5～5g/L，所述水为去离子水；其中所述氧化剂为硝酸铵，所述促进剂为乙酸钴。该退铬液中，起主要作用的是硝酸铵和乙酸钴；稳定剂和缓蚀剂也可以选择本领域中常用的物质。促进剂对于该退铬反应的进行具有明显的促进作用，退铬速度为1～2μm/min，退铬时间比同类产品缩短50％以上，且退镀干净而不伤基材。

较佳地，所述稳定剂为硼酸。

较佳地，所述缓蚀剂为苯并三氮唑、巯基苯并噻唑钠、聚环氧琥珀酸、丙烯基硫脲中的一种或几种组合物。苯并三氮唑、巯基苯并噻唑钠、丙烯基硫脲的极性基团可被基体金属的表面电荷吸附，在整个阳极和阴极区域形成一层单分子膜，从而阻止或减缓相应的引起腐蚀的电极反应，聚环氧琥珀酸可与金属离子结合生成沉积保护膜，阻止腐蚀的进一步发生。

所述退铬液的配制方法，先将按退铬液计量四分之三的水加入到容器中，接着依次加入所述氧化剂、促进剂、稳定剂、缓蚀剂，前一种物质溶解后再加入后一种物质，待完全溶解后用水补充至计量值完成制备，制得所述真空镀铬快速退铬液。其中，各种物质的加入顺序很关键，加入溶解完全也即是反应完全，反应是否完全也直接影响最终的品质。

本发明中的退铬液可以用在其他任何需要进行退铬处理的地方，当然，用在退真空镀铬层效果最好。

所述退铬液用于退真空镀铬层的方法为，先将真空镀铬的工件浸没在上述退铬液中浸泡，待退镀完全后再取出用水冲净，完成工件退铬。

较佳地，所述退铬速度为1～2μm/min。

较佳地，所述浸泡过程中可同时进行超声或者机械搅拌处理；超声或者机械搅拌可以提高退铬速度。