[发明专利]纳米二氧化硅的生产装置

说明书

纳米二氧化硅的生产装置，主要包括：反应釜(D101)、沉淀槽(F101)、离心机(L101)、洗涤池(L102)、离心机(L103)、微波干燥器(L104)、煅烧炉(B101),其中，沉淀槽(F101)分别与反应釜(D101)、离心机(L101)相连接，离心机(L103)分别与洗涤池(L102)、微波干燥器(L104)相连接，其中，反应釜(D101)夹套容量290‑300L。

技术领域

本发明涉及化合物合成装置，尤其涉及纳米二氧化硅的生产装置。

背景技术

纳米二氧化硅是极其重要的高科技超微细无机新材料之一，因其粒径很小，比表面积大，表面吸附力强，表面能大，化学纯度高，且在分散性能、热阻、电阻等方面具有特异的性能，广泛应用于橡胶、塑料、电子、涂料、陶(搪)瓷、石膏、蓄电池、颜料、胶黏剂、化妆品、玻璃钢、化纤、有机玻璃、环保等诸多领域。现有的生产装置大多比较复杂，纳米二氧化硅作为超微细无机新材料，其生产装置优劣对于提高产品质量，减少副产物含量具有重要经济意义。

发明内容

本发明的目的在于提供纳米二氧化硅的生产装置，主要包括：反应釜(D101)、沉淀槽(F101)、离心机(L101)、洗涤池(L102)、离心机(L103)、微波干燥器(L104)、煅烧炉(B101),其中，沉淀槽(F101)分别与反应釜(D101)、离心机(L101)相连接，离心机(L103)分别与洗涤池(L102)、微波干燥器(L104)相连接，其中，反应釜(D101)夹套容量290-300L，反应釜(D101)外锅直径1100-1200mm，沉淀槽(F101)公称容积4.4-4.6m³。

纳米二氧化硅的生产装置，生产流程为：将模数为3.3的硅酸钠溶液加入反应釜D101中，慢慢加热至20-23℃，搅拌均匀后，滴加HCI溶液发生反应，生成H₄SiO₄白色沉淀，然后在搅拌下加入适量分散剂和非离子表面活性剂，搅拌90～110min后，导入沉淀槽F101中，得到的沉淀物在L101中用离心法洗涤分离,继续导入L102、L103中洗涤、离心分离以去掉其中的CI^-。粗产物在微波干燥器L104中干燥70-90min，最后在煅烧炉B101中以温度440～450℃,热处理2-3h得到最终产品。本发明优点在于：减少了反应中间环节，降低了反应温度及反应时间，提高了反应收率。

附图说明

图1是纳米二氧化硅的生产装置，主要包括：反应釜(D101)、沉淀槽(F101)、离心机(L101)、洗涤池(L102)、离心机(L103)、微波干燥器(L104)、煅烧炉(B101)。

具体实施方式

下面结合具体实施实例对本发明作进一步说明：

实例1：

生产原料与用量

纳米二氧化硅的生产装置，主要包括：反应釜(D101)、沉淀槽(F101)、离心机(L101)、洗涤池(L102)、离心机(L103)、微波干燥器(L104)、煅烧炉(B101),其中，沉淀槽(F101)分别与反应釜(D101)、离心机(L101)相连接，离心机(L103)分别与洗涤池(L102)、微波干燥器(L104)相连接，其中，反应釜(D101)夹套容量290L，反应釜(D101)外锅直径1100mm，沉淀槽(F101)公称容积4.4m³。