[发明专利]一种回收再利用ITO废靶的工艺方法

权利要求书

1.一种回收再利用ITO废靶的工艺方法，包括将ITO粉末装入包套容器，经热等静压处理制备ITO管状靶材，其特征在于，所述包套容器包括一个内圆筒包套和一个外圆筒包套，所述内圆筒包套的壁厚是外圆筒包套壁厚的2倍以上，所述内圆筒包套的壁厚为3~10mm，所述外圆筒包套的壁厚为1~3mm，所述包套容器为碳含量为0.04%~0.60%的碳钢包套容器；所述包套容器与所述ITO粉末之间设置有隔离材料，所述隔离材料为石墨纸、氮化硼陶瓷材料或Al₂O₃陶瓷材料；所述包套容器还包括有环形的上、下端盖板，所述上端盖板留有真空抽气口，在进行热等静压处理前，先进行加热真空抽气处理；所述加热真空抽气处理是在400~600℃条件下，将包套容器内真空度调节至10^-2~10^-4Pa；在进行所述加热真空抽气处理前，对加入包套容器的ITO粉末进行振实处理，振实处理后，计算振实密度为4.20~5.00g/cm³；所述ITO粉末是通过如下方法制备得到的：首先打磨ITO废靶表面除去异物，再用无水酒精擦洗2~3次，然后在纯水中经超声波清洗2~3次，清洗后采用真空干燥或热风干燥进行干燥处理，最后采用颚式或离心式破碎机对干燥后的ITO废靶进行破碎，并采用100目的不锈钢筛网进行过筛，得到ITO粉末。

2.根据权利要求1所述的回收再利用ITO废靶的工艺方法，其特征在于，所述热等静压处理的温度为1000~1100℃，压力为100~200MPa，保温保压时间为2~6h。

3.根据权利要求1所述的回收再利用ITO废靶的工艺方法，其特征在于，所述ITO废靶为采用热等静压法或气氛烧结法生产ITO靶材的生产过程中产生的块状ITO废靶，或者为溅射镀膜后剩余的ITO残靶。

4.根据权利要求1所述的回收再利用ITO废靶的工艺方法，其特征在于，所述ITO粉末的粒度为20~120μm，松装密度为2.00±0.50g/cm³，纯度为99%以上。