[发明专利]一种激光发生器反射板有效
| 申请号： | 201711409166.9 | 申请日： | 2017-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN108008476B | 公开（公告）日： | 2019-09-10 |
| 发明（设计）人： | 薛龙建;谭迪;黄家辉 | 申请（专利权）人： | 武汉大学 |
| 主分类号： | G02B5/08 | 分类号： | G02B5/08;C23C28/00;C23C14/16;C23C14/58 |
| 代理公司： | 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 | 代理人： | 张火春 |
| 地址： | 430072 湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 激光 发生器 反射 | ||
1.一种激光发生器反射板，其特征在于：由基底、纯铬层、纯铝层和作为反射层的三氧化二铝薄膜组成四层结构，所述基底为具有高导热性的铜基体，通过沉积法依次在铜基体上表面形成纯铬层，在纯铬层上形成纯铝层，在纯铝层上沉积或生长作为反射层的三氧化二铝薄膜。
2.如权利要求1所述的激光发生器反射板，其特征在于：所述纯铬层厚度为5～100nm，纯铝层厚度为8～10μm，三氧化二铝薄膜的厚度为1～5μm。
3.如权利要求1所述的激光发生器反射板，其特征在于：所述三氧化二铝薄膜表面均方根粗糙度范围为10nm～100nm。
4.如权利要求1所述的激光发生器反射板，其特征在于：所述铜基体为纯铜基体或铜合金基体，所述三氧化二铝薄膜为α晶型三氧化二铝薄膜。
5.如权利要求1所述的激光发生器反射板，其特征在于：铜基体要预先抛光，先机械抛光，之后再化学抛光，抛光后铜基体表面均方根粗糙度小于1nm。
6.如权利要求1所述的激光发生器反射板，其特征在于：通过沉积法在铜基体上表面镀铬得到纯铬层，纯铬层表面粗糙度小于10nm。
7.如权利要求1所述的激光发生器反射板，其特征在于：通过沉积法在纯铬层上表面镀铝得到纯铝层，纯铝层表面粗糙度小于30nm。
8.如权利要求1所述的激光发生器反射板，其特征在于：镀铬采用的物理气相沉积法为电阻真空蒸镀、磁控溅射和多弧离子束溅射方法中的任意一种；镀铝采用的物理气相沉积法为高频感应加热蒸发镀、磁控溅射和多弧离子束溅射方法中的任意一种。
9.如权利要求1所述的激光发生器反射板，其特征在于：采用反应蒸镀法、阳极氧化法和阴极多弧离子镀氧化法中任意一种方法将纯铝层氧化，制备三氧化二铝薄膜。
10.如权利要求9所述的激光发生器反射板，其特征在于：对纯铝层氧化后在氩气保护气氛中进行去应力退火。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉大学，未经武汉大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711409166.9/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：个人信息智能采集方法和系统
- 下一篇：混凝土罐车清洗污水回收设备
