[发明专利]用于温度和液体折射率传感测量的光纤微结构传感器及其制备方法在审
| 申请号： | 201711400226.0 | 申请日： | 2017-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN108181271A | 公开（公告）日： | 2018-06-19 |
| 发明（设计）人： | 祝连庆;上官春梅;何巍;张雯;娄小平;李红;董明利 | 申请（专利权）人： | 北京信息科技大学 |
| 主分类号： | G01N21/45 | 分类号： | G01N21/45;G01K11/32 |
| 代理公司： | 北京律恒立业知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11416 | 代理人： | 顾珊;庞立岩 |
| 地址： | 100085 北京市海淀区清*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光纤微结构 液体折射率 传感器 灵敏度 传感 测量 传感器结构 倒锥形凹槽 氢氟酸溶液 温度灵敏度 传感领域 光纤端面 应用意义 传感头 体积小 涂覆层 折射率 去除 制备 腐蚀 制作 生产 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于温度和液体折射率传感测量的光纤微结构传感器，其特征在于，包括HI-1060光纤，所述HI-1060光纤末端设置有倒锥形凹槽结构。
2.根据权利要求1所述的光纤微结构传感器，其特征在于，所述倒锥形凹槽结构的凹槽深度为45μm。
3.根据权利要求1或2所述的光纤微结构传感器，其特征在于，所述倒锥形凹槽结构为HI-1060光纤端面经过化学腐蚀得到，所述化学腐蚀方法为：将HI-1060光纤端面插入40％浓度的氢氟酸溶液中，腐蚀20min。
4.一种用于温度和液体折射率传感测量的光纤微结构传感器的制备方法，包括以下步骤：
步骤一：采用HI-1060光纤，将HI-1060光纤一端去除涂覆层，用酒精擦拭干净，再用切割刀将该光纤端面切平，固定在支架上；
步骤二：将固定在支架上的光纤端面插入40％浓度的氢氟酸溶液中，腐蚀20min，形成倒锥形凹槽结构；
步骤三：取出光纤，先在蒸馏水中经过5分钟浸泡清洗，再放入到超声清洗机中进行二次清洗，除去凹槽中残留的氢氟酸残液，得到条纹对比度为6dB，波长间隔14nm的光纤微结构传感器。
5.根据权利要求4所述的光纤微结构传感器的制备方法，其特征在于，在步骤二中，所述倒锥形凹槽结构的凹槽深度为45μm。
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