[发明专利]用XRF分析层状样品

权利要求书

1.一种进行层状样品的X射线荧光XRF测量的方法，所述层状样品包括第一主要表面、第二主要表面以及在所述第一主要表面和所述第二主要表面之间的至少第一层和第二层，所述方法包括：

进行穿过所述第一主要表面的第一X射线测量，以获得对应于第一元素的第一XRF线的第一X射线强度值(I₁)；

进行穿过所述第二主要表面的第二X射线测量，以获得对应于所述第一元素的所述第一XRF线的第二X射线强度值(I₂)；以及

由所述第一X射线强度值(I₁)和所述第二X射线强度值(I₂)计算选自层参数的至少两个分析参数，所述层参数包括：

所述第一层中的所述第一元素的浓度(C₁)；

所述第二层中的所述第一元素的浓度(C₂)；

所述第一层的密度(d₁)；

所述第二层的密度(d₂)；

所述第一层的厚度(t₁)；以及

所述第二层的厚度(t₂)，

其中计算选自所述层参数的所述至少两个分析参数是迭代过程，所述迭代过程包括：

(i)除了所述至少两个分析参数之外，对所述层参数的每个采取假定的值或已知的值；

(ii)除了至少一个分析参数之外，假定所述分析参数的值，并且由X射线强度值以及所述假定的值和所述已知的值来计算所述至少一个分析参数的分析的值；以及

对于所述分析参数的每个和所述第一X射线强度值和所述第二X射线强度值中的至少一个重复步骤(ii)，用先前获得的所述分析参数的分析的值替换所述分析参数的所述假定的值，直到所述分析参数的所述分析的值收敛。

2.根据权利要求1所述的方法，其中在进行所述第一X射线测量的步骤之后，在进行所述第二X射线测量之前，将所述层状样品倒置。

3.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一X射线测量包括测量相应的XRF线的至少两个X射线强度值，并且所述第二X射线测量包括测量相应的XRF线的至少两个X射线强度值，导致至少四个X射线强度值。

4.根据权利要求3所述的方法，包括由所述至少四个X射线强度值计算至少三个分析参数。

5.根据权利要求3所述的方法，包括计算与测量的X射线强度值相同数目的分析参数。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，其中计算选自所述层参数的所述至少两个分析参数包括：

(a)除了第一分析参数之外，对所述层参数的每个采取假定的值或已知的值，包括第二分析参数的假定的值，并且由所述第一X射线强度值(I₁)以及所述假定的值和所述已知的值来计算所述第一分析参数的分析的值；

(b)除了所述第二分析参数之外，对所述层参数的每个采取假定的值或已知的值，包括所述第一分析参数的假定的值，并且由所述第二X射线强度值(I₂)以及所述假定的值和所述已知的值来计算所述第二分析参数的分析的值；

(c)用所述第二分析参数的所述分析的值替换所述第二分析参数的所述假定的值，并且由所述第一X射线强度值(I₁)、所述假定的值和所述已知的值、以及所述第二分析参数的所述分析的值重新计算所述第一分析参数的分析的值；

(d)用所述第一分析参数的所述分析的值替换所述第一分析参数的所述假定的值，并且由所述第二X射线强度值(I₂)、所述假定的值和所述已知的值、以及所述第一分析参数的所述分析的值重新计算所述第二分析参数的分析的值；以及

重复步骤(c)和步骤(d)，直到所述第一分析参数的所述分析的值和所述第二分析参数的所述分析的值收敛至所述第一分析参数的收敛的值和所述第二分析参数的收敛的值，并且输出所述第一分析参数的所述收敛的值和所述第二分析参数的所述收敛的值。