[发明专利]聚酰亚胺前驱物及其所制得的光刻图案

说明书

本发明有关于一种聚酰亚胺前驱物及其所制得的光刻图案。此聚酰亚胺前驱物具有如下式(I)所式的重复单元：于式(I)中，Ar代表衍生自含有四羧酸二酐的四价基团；R₁代表衍生自含有二胺的二价基团；且R₂分别独立地代表热交联基团、感光交联基团或氢原子。此聚酰亚胺前驱物具有良好的图案成形性。

技术领域

本发明是有关一种聚酰亚胺前驱物及光刻图案(lithography pattern)，特别是提供一种具有良好图案成形性的聚酰亚胺前驱物及光刻图案。

背景技术

随着电子产品的发展越趋轻薄，电子零组件的尺寸是日渐缩小。其中，为了同时满足尺寸缩减与信号传递的要求，线宽图案的尺度是逐渐微小化，且线宽解析度亦被严格要求。因此，作为软性基板原料的聚酰亚胺化合物的图案成形性是日益重要。

在许多的应用中，聚酰亚胺树脂可添加感光交联基团，以形成聚酰亚胺前驱物，并利用涂布、曝光及显影等处理，产生适当的光刻图案。

然而，一般聚酰亚胺前驱物的聚酰胺酸溶液易降解且保存不易，故所形成的聚酰亚胺具有较低的分子量，而使其易被显影液所洗去，进而降低图案解析度，或者无法形成光刻图案，导致操作性不佳。

有鉴于此，亟须提供一种聚酰亚胺前驱物及其所制得的光刻图案，以改进聚酰亚胺前驱物及其所制得的光刻图案的缺陷。

发明内容

因此，本发明的一个方面在于提供一种聚酰亚胺前驱物，此聚酰亚胺前驱物具有特定结构的重复单元，而具有良好的图案成形性，进而可藉由光刻制程制得具良好分辨性的光刻图案。

本发明的另一方面在于提供一种光刻图案，其是利用前述的聚酰亚胺前驱物进行光刻制程所制得。

根据本发明的一个方面，提出一种聚酰亚胺前驱物。此聚酰亚胺前驱物具有如下式(I)所示的重复单元：

于式(I)中，Ar代表衍生自含有四羧酸二酐的四价基团；R₁代表衍生自含有二胺的二价基团；且R₂分别独立地代表热交联基团、感光交联基团或氢原子。

依据本发明的一实施例，前述的Ar分别独立地代表或且Y代表单键、-O-、-CH₂-、-C(CH₃)₂-、-C(CF₃)₂-、-SO₂-或-CO-。

依据本发明的另一实施例，前述的R₁分别独立地代表(其中R₁₁代表3至12的整数)、(其中R₁₄代表9至39的数值，且R₁₃与R₁₅的总和为3至6的数值)。

依据本发明的又一实施例，前述的R₂包含或其中「*」代表与式(I)的氧原子键结的位置。

依据本发明的再一实施例，前述聚酰亚胺前驱物的重复单元的数目为2至150。

依据本发明的又另一实施例，前述聚酰亚胺前驱物的二分子链末端分别具有第一封端基团及第二封端基团，其中第一封端基团是与式(I)的R₁键结，且第二封端基团是与式(I)的氮原子键结。

依据本发明的再另一实施例，前述第一封端基团及第二封端基团分别为热交联基团。

依据本发明的更另一实施例，前述第一封端基团具有-X的结构；第二封端基团具有-R₁-X的结构；且X分别独立地代表或其中Ar代表衍生自含有四羧酸二酐的四价基团，R₂分别独立地代表热交联基团、感光交联基团或氢原子，且「*」代表键结位置。