[发明专利]光阻过滤器在审

专利信息
申请号: 201711385436.7 申请日: 2017-12-20
公开(公告)号: CN108176108A 公开(公告)日: 2018-06-19
发明(设计)人: 许峯嘉;王铮 申请(专利权)人: 新阳硅密(上海)半导体技术有限公司
主分类号: B01D29/33 分类号: B01D29/33;B01D29/58;B01D35/30
代理公司: 上海脱颖律师事务所 31259 代理人: 李强
地址: 201616 上海市松*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 过滤桶 光阻过滤器 容纳槽 槽体 槽盖 过滤通孔 容腔 过滤性能 连接设置 容置 连通 密封
【说明书】:

发明公开了一种光阻过滤器。所述光阻过滤器包括槽体、槽盖及过滤桶。所述槽体具有容纳槽。所述槽盖设置在所述槽体的顶端,并密封所述容纳槽地设置。所述过滤桶容置在所述容纳槽内。所述过滤桶与所述槽体和/或所述槽盖连接设置。所述过滤桶具有容腔。所述过滤桶设置有多个过滤通孔。所述过滤通孔连通所述容腔与所述容纳槽地设置。所述光阻过滤器结构精简且过滤性能佳。

技术领域

本发明涉及一种半导体处理设备,特别是一种光阻过滤器。

背景技术

在半导体加工处理过程中,往往需要采用诸如光阻的光敏材料。光阻,亦称光阻剂,可以应用于很多工业制程中。在对半导体部件进行处理后,往往需要将相应的光阻进行剥离。一般地,在进行光阻剥离过程中会产生体积不一、无法溶解在化学处理液中的块状光阻。块状光阻的积累容易导致循环管路堵塞。

发明内容

本发明的目的之一是为了克服现有技术中的不足,提供一种过滤性能佳的光阻过滤器。

为实现以上目的,本发明通过以下技术方案实现:

本发明提供一种光阻过滤器。所述光阻过滤器包括槽体、槽盖及过滤桶。所述槽体具有容纳槽。所述槽盖设置在所述槽体的顶端,并密封所述容纳槽地设置。所述过滤桶容置在所述容纳槽内。所述过滤桶与所述槽体和/或所述槽盖连接设置。所述过滤桶具有容腔。所述过滤桶设置有多个过滤通孔。所述过滤通孔连通所述容腔与所述容纳槽地设置。

优选地,所述的光阻过滤器还包括第二过滤桶。所述第二过滤桶设置在所述过滤桶的容腔内。所述第二过滤桶与所述槽体和/或所述槽盖连接设置。所述第二过滤桶具有第二容腔。所述过滤桶设置有多个第二过滤通孔。所述第二过滤通孔连通所述第二容腔与所述容腔地设置。

优选地,所述第二过滤通孔的密度大于所述过滤通孔的密度。

优选地,所述第二过滤桶的顶端可拆卸地设置在槽盖的底端。

优选地,所述槽体的侧壁上设置有注液通孔。所述注液通孔与所述容纳槽连通,以可导入参杂有光阻的处理液。所述槽盖设置有出液通孔。所述出液通孔与所述第二容腔连通,以可导出滤除了光阻的处理液。

优选地,所述槽体的底壁上设置有排放通孔。所述排放通孔与所述容纳槽连通,以可排出光阻。

优选地,所述槽盖设置有减压部,以可减轻所述容纳槽内的气体压强。

优选地,所述的光阻过滤器还包括液位传感器。所述液位传感器容置在所述容纳槽内,以可感测所述容纳槽内的处理液高度。

优选地,所述过滤桶的顶端可拆卸地设置在所述槽盖的底端。

优选地,所述的光阻过滤器还包括过滤器花篮。所述过滤器花篮具有容置腔。所述过滤器花篮设置在所述容纳槽内。所述过滤桶设置在所述过滤器花篮的容置腔内。

优选地,在沿所述槽体的径向上,所述过滤器花篮与所述槽体之间的间距小于该过滤器花篮与所述过滤桶之间的间距。

与现有技术相比,本发明光阻过滤器。所述光阻过滤器通过过滤桶与槽体的配合,替代了传统的过滤网,不仅整体结构较为简单、操作便利且过滤性能佳。进一步地,在所述过滤桶内再设置第二过滤桶实现再一次过滤,从而进一步提升过滤性能。

附图说明

图1为本发明提供的光阻过滤器的俯视示意图。

图2为图1的光阻过滤器的立体剖视图。

图3为图1的光阻过滤器沿E-E线的剖视图。

具体实施方式

下面结合附图对本发明进行详细的描述:

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