[发明专利]一种低温高档镁质瓷的制备方法在审
申请号: | 201711355893.1 | 申请日: | 2017-12-16 |
公开(公告)号: | CN109928720A | 公开(公告)日: | 2019-06-25 |
发明(设计)人: | 王必胜 | 申请(专利权)人: | 王必胜 |
主分类号: | C04B33/13 | 分类号: | C04B33/13;C04B33/34;C04B41/86;C03C8/00 |
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地址: | 333000 江西省景德镇市乐*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 坯料 制备 高岭土 镁质瓷 中温釉 石英 坯体 素烧 釉料 长石 保温 方解石 滑石 重量百分比 碳酸钙 釉料配方 玻璃料 光泽度 膨润土 烧滑石 氧化锶 施釉 釉面 成型 应用 | ||
本发明涉及一种低温高档镁质瓷的制备方法,其坯料和釉料配方的重量百分比组成为:坯料:烧滑石32%、生滑石26%、长石10%、高岭土15%、膨润土4%、石英10%、碳酸钙3%;釉料:长石24%、方解石14%、高岭土6%、石英14%、ZnO 3%、BaCO3 4%、玻璃料25%、氧化锶5%;经过坯料和釉料制备、成型、干燥、坯体素烧、施釉、干燥、中温釉烧获得制品,其中坯体素烧温度范围为:1120~1180℃,保温时间为30min,中温釉烧温度为1100℃、保温时间为30min,获得具有釉面质量好、光泽度高制品,因此具有广阔的应用前景。
技术领域
本发明属无机非金属材料(陶瓷)领域,具体涉及一种低温高档镁质瓷的制备方法。
背景技术
目前国内中温镁质瓷制备方法大都采用一次烧成工艺,但由于镁质瓷烧成温度范围狭窄,在烧成过程中温度不易控制,当温度过高或保温时间过长时易产生变形缺陷,当温度过低或保温时间短时易产生炸裂缺陷,因此目前中温镁质瓷生产过程中为扩宽烧成范围,往往加入30%左右的生滑石,然而由于采用一次性烧成工艺,其在烧成过程中随生滑石的分解釉面会产生较多的针孔缺陷,另外因镁质瓷坯体的膨胀系数较大,釉的膨胀系数为了要与之匹配,一次烧成后釉面光泽度差且易产生针孔缺陷,因此目前低温镁质瓷的制备方法已经不能满足消费者的需求,严重阻碍了低温镁质日用陶瓷品质的提升。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种釉面质量好、光泽度高、原料成本低廉、生产工艺简单的低温高档镁质瓷的制备方法。
本发明通过以下技术方案予以实现:一种低温高档镁质瓷的制备方法,其特征在于:采用矿物原料及化工原料, 其坯料和釉料配方的重量百分比组成为:
坯料:烧滑石32%、生滑石26%、长石10%、高岭土15%、膨润土4%、石英10%、碳酸钙3%;
釉料:长石24%、方解石14%、高岭土6%、石英14%、ZnO 3%、BaCO3 4%、玻璃料25%、氧化锶5%;
经过坯料和釉料制备、成型、干燥、坯体素烧、施釉、干燥、中温釉烧获得制品,其中坯体素烧温度范围为:1120~1180℃,保温时间为30min,低温釉烧温度为1000℃、保温时间为30min。
按所述坯料配方称量原料混合均匀,然后装入球磨设备内球磨,出磨泥料细度为0.008%万孔筛余。
所述釉料的制备工艺为:按釉料配方称量原料合均匀,然后装入球磨设备内球磨,出磨釉料细度为0.03%万孔筛余。
本发明采用天然矿物原料和工业纯原料,通过两次烧成工艺制备了一种釉面质量好、光泽度高的低温镁质瓷,高温素烧既有利于有机物的排除和滑石的晶型转化及消除残余应力,又通过反应中生产的液相克服了坯体变形,有效的消除了釉面针孔,提高了釉面亮度,因此具有广阔的市场前景。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明、为达成预定发明目的所采取的技术手段及功效,以下结合较佳实施例,对本发明进行详细说明:
实施列一:
一种低温高档镁质瓷的制备方法,按质量百分比称取坯料:烧滑石32%、生滑石26%、长石10%、高岭土15%、膨润土4%、石英10%、碳酸钙3%,经混合球磨,控制出磨泥料细度为0.008%万孔筛余,泥浆陈腐后,注浆成形获得坯体,该坯体预先经过素烧,素烧温度为1150℃、保温时间为30min;
按质量百分比称取釉料:长石24%、方解石14%、高岭土6%、石英14%、ZnO 3%、BaCO3 4%、玻璃料25%、氧化锶5%,经混合球磨,控制出磨泥料细度为0.03%万孔筛余,然后在素烧过的素胎内外表面上釉、干燥,在1000℃烧成,保温时间为30min。
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