[发明专利]金属粉末制备装置与方法

权利要求书

1.一种金属粉末制备装置，其特征在于，包括进料装置、雾化喷嘴、还原气喷环和雾化塔；

所述进料装置的底部设有进料孔；

所述雾化喷嘴用于喷射雾化流体，所述雾化喷嘴设置在所述进料装置的下方；

所述还原气喷环用于喷射还原性气体，所述还原气喷环设置在所述雾化喷嘴的下方，所述还原气喷环包括喷环本体，所述喷环本体具有供金属熔液通过的漏液孔，所述喷环本体内设有气流通道，所述气流通道包括沿气流方向依次设置的气腔和出气通道，所述气腔及所述出气通道为围绕所述漏液孔设置的环状结构；

所述雾化塔具有雾化内腔，所述雾化塔的两端分别设有雾化塔入口和雾化塔出口，所述雾化塔设置在所述还原气喷环的下方，所述进料装置通过所述雾化塔入口、所述雾化喷嘴、所述漏液孔和所述雾化塔入口与所述雾化内腔连通。

2.如权利要求1所述的金属粉末制备装置，其特征在于，所述气腔靠近所述出气通道的一侧逐渐收窄后与所述出气通道连通，所述出气通道朝向所述漏液孔的出气端的开口宽度逐渐增大。

3.如权利要求2所述的金属粉末制备装置，其特征在于，所述出气通道的最窄处的开口宽度为1mm～2mm。

4.如权利要求1所述的金属粉末制备装置，其特征在于，所述雾化喷嘴的出气口与所述还原气喷环的出气口在垂直方向上的距离为10mm～40mm。

5.如权利要求1所述的金属粉末制备装置，其特征在于，所述漏液孔包括沿进料方向依次设置的通孔上部和通孔下部，所述通孔下部的内径不小于所述通孔上部的内径。

6.如权利要求5所述的金属粉末制备装置，其特征在于，所述通孔下部的内径沿进料方向逐渐扩大。

7.如权利要求5所述的金属粉末制备装置，其特征在于，所述通孔上部的内径为40mm～120mm，所述通孔下部的内径为40mm～180mm。

8.如权利要求1～7任一项所述的金属粉末制备装置，其特征在于，还包括收集装置，所述收集装置与所述雾化塔的雾化塔出口连通。

9.一种金属粉末制备方法，其特征在于，使用如权利要求1～8任一项所述的金属粉末制备装置，所述金属粉末制备方法包括以下步骤：

将金属熔液倒入所述进料装置；通过所述雾化喷嘴喷射雾化流体，通过所述还原气喷环喷射还原性气体；

所述还原性气体的进气压力为0.3MPa～4.0MPa；

所述还原性气体的体积与所述金属熔液的质量之比为5cm3/kg～60cm3/kg。

10.如权利要求9所述的金属粉末制备方法，其特征在于，所述还原性气体的进气压力为1.5MPa～2.5MPa；和/或，

所述还原性气体的体积与所述金属熔液的质量之比为25cm3/kg～40cm3/kg。