[发明专利]一种显示装置在审
申请号: | 201711276947.5 | 申请日: | 2017-12-06 |
公开(公告)号: | CN107991802A | 公开(公告)日: | 2018-05-04 |
发明(设计)人: | 谢明 | 申请(专利权)人: | 上海天马微电子有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335;G02F1/13363 |
代理公司: | 北京晟睿智杰知识产权代理事务所(特殊普通合伙)11603 | 代理人: | 于淼 |
地址: | 201201 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 显示装置 | ||
技术领域
本发明属于显示技术领域,具体涉及一种显示装置。
背景技术
液晶显示技术是利用液晶分子在电场的作用下能够进行转动而使液晶分子进行重排,进而控制光线是否透过偏振片而达到显示画面的目的。
对于反射式液晶显示装置来说,可以利用自然光作为光源进行显示,可以分为被动式液晶显示装置和半反半透式液晶显示装置。
被动式是利用自然光作为光源,自然光入射到显示装置内,通过显示装置的反射层进行反射,并控制液晶分子的转动来控制该反射光线是否能够透过偏振片来进行显示;被动式液晶显示装置无需安装光源,较为节能,而且,自然光越强,显示效果越好,同时,较为保护视力。
半反半透式液晶显示装置既能够在强光下进行反射显示,又能够在弱光下进行主动显示。
对于能够进行反射显示的被动式液晶显示装置和半反半透式液晶显示装置来说,显示装置中的金属线会对自然光进行反射,该反射光会降低显示装置的对比度,因此,需要利用黑矩阵(Black Matrix,BM)来消除金属线反光,从而提高显示装置的对比度。
但是,黑矩阵的制作通常与显示装置的阵列基板不在同一车间进行制作,这增加了显示装置制作过程中的运输成本和制作时间,而且,制作黑矩阵也增加了工艺步骤,成本较高。
因此,针对上述问题,提供一种显示装置,是本领域亟待解决的技术问题。
发明内容
有鉴于此,本发明提供了一种显示装置,通过对第一偏光结构进行改进,从而无需再设置黑矩阵,减少了显示装置制作过程中的运输成本,也减少了显示装置制作的工艺步骤,有利于成本的降低。
为了解决上述技术问题,本发明提供了一种显示装置,包括:
显示区,包括多个像素;
边框区,包围所述显示区;
第一基板,一侧设置有第一偏光结构,另一侧设置有金属线,其中,所述金属线设置于所述显示区的两个所述像素之间和/或所述边框区;
第二基板,与所述第一基板相对设置,所述第二基板靠近所述第一基板的一侧设置有反射层;
液晶层,位于所述第一基板与所述反射层之间,且所述金属线位于所述第一基板靠近所述液晶层的一侧;
其中,所述第一偏光结构包括1/4波片,所述1/4波片的位相差值为1/4λ,第二光线与所述1/4波片的位相差值为1/4λ,以使所述第二光线被所述第一偏光结构吸收;
其中,λ为可见光波长;
所述第二光线为入射至所述第一基板与所述第二基板之间,且由所述金属线反射至所述第一偏光结构的光线。
与现有技术相比,本发明的显示装置实现了如下的有益效果:
本发明提供了一种显示装置,对第一偏光结构进行了设计,在第一偏光结构中增加了1/4波片,金属线的反射光经过1/4波片后能够被第一偏光结构吸收,无法透过第一偏光结构,而经过液晶层的光线在液晶分子光电特性的作用下,经过1/4波片,能够透过第一偏光结构,从而进行画面显示,无需再设置黑矩阵对金属线的反光进行遮挡,也能够保证显示装置的对比度,因此,减少了制作黑矩阵的工艺步骤,也无需再将黑矩阵进行运输至阵列基板的生产车间,降低了运输成本。
通过以下参照附图对本发明的示例性实施例的详细描述,本发明的其它特征及其优点将会变得清楚。
附图说明
被结合在说明书中并构成说明书的一部分的附图示出了本发明的实施例,并且连同其说明一起用于解释本发明的原理。
图1为现有技术中的一种反射式显示装置的截面示意图;
图2为现有技术中的另一种反射式显示装置的截面示意图;
图3为本发明实施例中的一种显示装置的俯视示意图;
图4为本发明实施例中一种显示装置的截面示意图;
图5为本发明实施例中显示装置的消光及透光原理示意图;
图6为具有不同相位差值的1/4波片的第一偏光结构的对第二光线的透过模拟曲线图;
图7为不同位相差值的第一偏光结构对波长为550nm的第二光线的透过模拟图;
图8为本发明实施例中的一种第一偏振结构的截面示意图;
图9为本发明实施例中另一种第一偏光结构的截面示意图;
图10为本发明实施例中一种反射式显示装置的俯视示意图;
图11为图10中沿A-A线的局部截面示意图;
图12为本发明实施例中的一种反射式显示装置的截面示意图;
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