[发明专利]一种显示面板及显示装置在审

专利信息
申请号: 201711265680.X 申请日: 2017-12-05
公开(公告)号: CN107908046A 公开(公告)日: 2018-04-13
发明(设计)人: 陈南;宋勇志;汪栋;万冀豫;张思凯 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
主分类号: G02F1/1339 分类号: G02F1/1339;G02F1/1343
代理公司: 北京润泽恒知识产权代理有限公司11319 代理人: 莎日娜
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 显示 面板 显示装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及显示技术领域,特别是涉及一种显示面板及显示装置。

背景技术

液晶显示面板是液晶显示装置的主要部件,在液晶显示面板中,主要通过PS(Post Spacer,隔垫物)来维持显示面板的上下基板的盒厚。

通常为了维持两个基板间的盒厚,在其中一个基板上设置有Main PS和Sub PS,二者存在高度差,当液晶显示面板受到外力压缩后,可以依靠较低的Sub PS的支撑作用来维持盒厚,但是由于该处Sub PS较低,无法保证盒厚均匀。

发明内容

本发明提供了一种显示面板及显示装置,以解决现有技术中显示面板在受到外力后,隔垫物无法保证盒厚均匀的问题。

第一方面,本发明提供一种显示面板,包括:相对设置的第一基板和第二基板;

所述第一基板包括第一电极层及形成在所述第一电极层上的电致伸缩结构,所述第二基板包括第二电极层及形成在所述第二电极层上的隔垫物;

所述第二电极层与所述第一电极层形成多个重叠区域,所述电致伸缩结构设置在所述重叠区域;

所述电致伸缩结构与所述隔垫物一一相对应,且所述电致伸缩结构朝向所述隔垫物的端面与所述隔垫物朝向所述电致伸缩结构的端面贴合;

所述显示面板还包括控制模块,所述控制模块分别与所述第一电极层、所述第二电极层连接,用于当所述显示面板受到外力后,确定受力点对应的所述电致伸缩结构,并改变所述受力点对应的所述电致伸缩结构对应的所述第一电极层与所述第二电极层的电压,控制所述受力点对应的所述电致伸缩结构的伸缩。

可选地,所述第一电极层包括多个沿第一方向延伸的第一电极,所述第二电极层包括多个沿第二方向延伸的第二电极,所述第一方向与所述第二方向交叉。

可选地,所述第一电极与所述第二电极在所述第一基板上的正投影位于所述第一基板的黑矩阵在所述第一基板上的正投影内。

可选地,所述第二基板上的各个所述隔垫物的高度相同。

可选地,在所述电致伸缩结构与所述隔垫物接触的表面,所述电致伸缩结构具有第一凹陷部,所述隔垫物具有第一凸起部,所述第一凹陷部与所述第一凸起部相匹配。

可选地,在所述电致伸缩结构与所述隔垫物接触的表面,所述电致伸缩结构具有第二凸起部,所述隔垫物具有第二凹陷部,所述第二凸起部与所述第二凹陷部相匹配。

可选地,所述电致伸缩层的材料为纳米钛酸钡、聚氨酯复合体或陶瓷的一种或多种的组合。

第二方面,本发明还提供了一种显示装置,包括上述显示面板。

第三方面,本发明还提供了一种显示面板的控制方法,应用于上述显示面板,所述控制方法包括:

在所述显示面板受到外力后,所述控制模块确定受力点对应的所述电致伸缩结构;

所述控制模块改变所述受力点对应的所述电致伸缩结构对应的所述第一电极层与所述第二电极层的电压,以控制所述受力点对应的所述电致伸缩结构的伸缩。

可选地,所述在所述显示面板受到外力后,所述控制模块确定受力点对应的所述电致伸缩结构包括:

所述控制模块检测所述第一电极层与所述第二电极层在其重叠区域形成的各电容的变化;

根据发生变化的电容所在位置确定所述受力点对应的所述电致伸缩结构。

与现有技术相比,本发明实施例具有以下优点:

本发明实施例的显示面板,在第一基板上形成多个电致伸缩结构,电致伸缩结构与第二基板上的隔垫物一一对应并贴合,通过分别设置在第一基板与第二基板的第一电极层与第二电极层来控制电致伸缩结构的伸缩,当显示面板受到外力后,通过控制电致伸缩结构的伸缩以调整对应位置隔垫物的支撑力,进而可以有效保证盒厚均匀。

附图说明

图1所示为本发明实施例的一种显示面板的第一基板与第二基板的结构示意图;

图2所示为本发明实施例的显示面板受外力压缩的状态示意图;

图3所示为电致伸缩结构与隔垫物的配合结构示意图;

图4所示为电致伸缩结构与隔垫物的另一中配合结构示意图;

图5所示为本发明实施例的一种显示面板的控制方法流程图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获取的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。

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