[发明专利]光波导光学元件以及形成光波导光学元件的方法

权利要求书

1.一种光波导光学元件，包含：

有机光学材料，包含：

周边平面；以及

多个凸出尖岭，而被所述周边平面所包围；

抗反射堆叠，以顺应地覆盖所述多个凸出尖岭；以及

有机光学盖，以对应地覆盖所述多个凸出尖岭。

2.根据权利要求1所述的光波导光学元件，其特征在于，所述有机光学材料与所述有机光学盖是独立选自由丙烯酸材料与环氧材料所组成之光学透明材料群组。

3.根据权利要求1所述的光波导光学元件，其特征在于，所述抗反射堆叠包含至少一层之氧化锆与氧化硅。

4.根据权利要求1所述的光波导光学元件，其特征在于，所述凸出尖岭各自独立具有1:1-1:3.5之高宽比。

5.根据权利要求1所述的光波导光学元件，其特征在于，所述凸出尖岭各自独立具有选自由三角形、矩形、梯形与平行四边形所组成之群组之几何结构。

6.根据权利要求1所述的光波导光学元件，其特征在于，所述有机光学盖具有之残留厚度为0.5微米至60微米。

7.根据权利要求1所述的光波导光学元件，更进一步包含：

顶玻璃片，以覆盖所述有机光学盖。

8.根据权利要求1所述的光波导光学元件，其特征在于，更进一步包含：

底光学透明载体，直接接触所述有机光学材料以支撑所述有机光学材料。

9.一种形成光波导光学元件的方法，包含：

形成平坦有机光学层，而位于光学透明基材上；

使用模板以转移图案至所述平坦有机光学层中，而获得图案化有机光学层；

在所述模板存在下熟化所述图案化有机光学层，而获得位于所述光学透明基材上之有机光学材料；

自所述有机光学材料移除所述模板；

形成抗反射堆叠，以顺应地覆盖所述有机光学材料；以及

将有机光学盖层放在所述抗反射堆叠上，以覆盖所述抗反射堆叠。

10.根据权利要求9所述的形成光波导光学元件的方法，其特征在于，更进一步包含：

进行模塑步骤，而在塑模存在下置放顶玻璃片，以覆盖所述有机光学盖层；以及

在所述顶玻璃片存在下熟化所述有机光学盖层，以获得有机光学盖。

11.根据权利要求10所述的形成光波导光学元件的方法，其特征在于，更进一步包含：

自所述有机光学盖移除所述顶玻璃片。

12.根据权利要求10所述的形成光波导光学元件的方法，其特征在于，更进一步包含：

自所述有机光学材料移除所述光学透明基材。

13.根据权利要求9所述的形成光波导光学元件的方法，其特征在于，更进一步包含：

将一光波导光学元件堆叠至另一光波导光学元件上。

14.根据权利要求10所述的形成光波导光学元件的方法，其特征在于，所述有机光学材料与所述有机光学盖系独立选自由丙烯酸材料与环氧材料所组成之光学透明材料群组。

15.根据权利要求9所述的形成光波导光学元件的方法，其特征在于，所述抗反射堆叠包含至少一层之氧化锆与氧化硅。

16.根据权利要求9所述的形成光波导光学元件的方法，其特征在于，所述有机光学材料包含：

周边平面；以及

多个凸出尖岭，而被所述周边平面所包围，又各自独立具有1:1-1:3.5之高宽比。