[发明专利]广角发射滤光器，具有其的光学传感器组件，具有其的PCR系统及其制造方法

权利要求书

1.一种广角发射滤光器，包括：

基质，所述基质具有平坦的形状并包括透明材料，所述基质通过激发光不产生荧光或磷光；

光刻胶，所述光刻胶设置在所述基质中，所述光刻胶通过选自热硬化、光硬化和晾干构成的组中的至少一种方法固定为固态；以及

着色剂，所述着色剂设置在所述基质中，并且包括吸收具有预定波长范围的光的材料，

其中，所述广角发射滤光器无论所述激发光的入射角如何都对所述激发光进行过滤；

其中所述光刻胶包括半固化光刻胶，所述半固化光刻胶未完全被短波长的光饱和，并且所述激发光首先被所述着色剂过滤，并且其中所述半固化光刻胶被配置为其次过滤所述激发光以形成二次过滤的半固化光刻胶，并且

其中所述光刻胶与所述着色剂混合并设置在所述基质中，并且其中所述光刻胶、所述着色剂和所述基质形成同一层。

2.如权利要求1所述的广角发射滤光器，其中所述广角发射滤光器是一次性的，并且用于一次性测试。

3.如权利要求1所述的广角发射滤光器，其中所述光刻胶还包括设置在所述基质中的饱和光刻胶，所述饱和光刻胶被所述激发光完全饱和。

4.一种光学传感器组件，包括：

广角发射滤光器，所述广角发射滤光器被配置为不管激发光的入射角如何都对所述激发光进行过滤并且使具有比所述激发光更长波长的发射光透射，所述广角发射滤光器包括：

基质，所述基质具有平坦的形状并包括透明材料，所述基质通过所述激发光不产生荧光或磷光；

光刻胶，所述光刻胶设置在所述基质中，所述光刻胶通过选自热硬化、光硬化和晾干构成的组中的至少一种方法固定为固态；以及

着色剂，所述着色剂设置在所述基质中，并且包括吸收具有预定波长范围的光的材料；以及

光学传感器衬底，包括：

基底衬底，所述基底衬底具有平坦的形状，并且与所述广角发射滤光器一体形成；以及

光学传感器阵列，所述光学传感器阵列包括复数个光学传感器，所述复数个光学传感器埋在所述基底衬底的上部并设置为阵列形状，用于感测已经透过所述广角发射滤光器的发射光的亮度；

其中所述光刻胶包括半固化光刻胶，所述半固化光刻胶未完全被短波长的光饱和，并且所述激发光首先被所述着色剂过滤，并且其中所述半固化光刻胶被配置为其次过滤所述激发光以形成二次过滤的半固化光刻胶，并且

其中所述光刻胶与所述着色剂混合并设置在所述基质中，并且其中所述光刻胶、所述着色剂和所述基质形成同一层。

5.如权利要求4所述的光学传感器组件，其中所述光学传感器衬底还包括：

温度传感器，所述温度传感器设置为与所述广角发射滤光器相邻，用于感测温度；以及

第一温度控制构件，所述第一温度控制构件设置在所述基底衬底的下方，用于控制所述温度。

6.如权利要求4所述的光学传感器组件，还包括：干涉滤光器，所述干涉滤光器一体形成在所述广角发射滤光器的上表面上，并通过堆叠具有不同折射率的复数个折射层而形成。

7.如权利要求6所述的光学传感器组件，其中所述干涉滤光器具有OD3(10³)的滤光特性，其中千分之一的入射光透过所述干涉滤光器，并且剩余的入射光被所述干涉滤光器阻挡，但是包括所述干涉滤光器和所述广角发射滤光器的滤光器组件具有大于或等于OD5(10⁵)的滤光特性，其中十万分之一的入射光透过所述滤光器组件，并且剩余的入射光被所述滤光器组件阻挡。

8.如权利要求6所述的光学传感器组件，其中所述干涉滤光器包括薄膜，所述薄膜包括选自金属、金属氧化物和非金属构成的组中的至少一种材料。

9.如权利要求4所述的光学传感器组件，还包括：第二广角发射滤光器，所述第二广角发射滤光器形成在与所述广角发射滤光器相同的平面上，并且具有第二着色剂，所述第二着色剂包括吸收波长不同于所述着色剂的波长的光的材料。