[发明专利]一种护肤基质及其应用有效
| 申请号： | 201711237287.X | 申请日： | 2017-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN107898721B | 公开（公告）日： | 2021-01-12 |
| 发明（设计）人： | 佐佐木公夫;孙怀庆;谭洁莹;裴运林;聂艳峰;刘露 | 申请（专利权）人： | 丸美化妆品株式会社 |
| 主分类号： | A61K8/9794 | 分类号： | A61K8/9794;A61K8/9789;A61Q19/08 |
| 代理公司： | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人： | 任重 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 护肤 基质 及其 应用 | ||
【权利要求书】：
1.一种护肤基质，其特征在于，包括如下质量百分比的组分：
所述酒糟提取物为酒糟与水按质量比为3～7︰1混合均质得到；所述野大豆为GLYCINESOJA野大豆；所述野大豆胚芽提取物的生产厂家为日本东洋纺公司；
所述酒糟提取物的制备方法包括如下步骤：
S1：将酒糟粉碎，加水搅拌溶解成浆状；所述酒糟与水的质量比为3～7︰1；
S2：将步骤S1得到的混合物在80～90℃温度下灭菌30～40分钟，均质，分散过滤提取液；过夜静置得到酒糟提取物。
2.根据权利要求1所述护肤基质，步骤S2中灭菌温度为85℃；灭菌时间为40min。
3.根据权利要求1所述护肤基质，其特征在于，所述水为离子交换水。
4.根据权利要求1所述护肤基质，其特征在于，包括如下按质量百分比的组分：
所述野大豆为GLYCINE SOJA野大豆。
5.权利要求1至4任一所述护肤基质在制备护肤品中的应用。
6.根据权利要求5所述应用，其特征在于，所述护肤品中护肤基质的质量百比为30～45％。
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