[发明专利]阵列式发射率参考物

权利要求书

1.本发明涉及阵列式发射率参考物，包括长方体金属基底(1)，矩形槽(2)，矩形翅(3)，对称线(4)，其特征在于：所述长方体金属基底(1)上表面存在一系列矩形槽(2)和矩形翅(3)，在长方体金属基底(1)表面存在一根对称线(4)。

2.根据权利要求1所述的阵列式发射率参考物，其特征在于：所述长方体金属基底(1)作为基底，长宽高约为70mm×30mm×20mm，长方体金属基底(1)整体为对称型结构，长方体金属基底(1)采用纯铝制金属材料。

3.根据权利要求1所述的阵列式发射率参考物，其特征在于：所述矩形槽(2)由在长方体金属基底(1)上表面切割后切除的空间形成，矩形槽(2)深度以对称线(4)为中心往两侧均匀依次递增，矩形槽(2)以对称线(4)为轴左右对称。

4.根据权利要求1所述的阵列式发射率参考物，其特征在于：所述矩形翅(3)由在长方体金属基底(1)上表面切割后未被切除的部分形成，矩形翅(3)深度以对称线(4)为中心往两侧均匀依次递增，矩形翅(3)以对称线(4)为轴左右对称，矩形槽(2)和矩形翅(3)的在长方体金属基底(1)上表面的宽度比为1∶3。

5.根据权利要求1所述的阵列式发射率参考物，其特征在于：所述对称线(4)在长方体金属基底(1)表面，对称线(4)平行于矩形槽(2)且为长方体金属基底(1)的对称轴。