[发明专利]旋转清洗设备、用于旋转清洗设备的检测设备以及检测方法

说明书

本公开涉及一种旋转清洗设备以及用于旋转清洗设备的检测设备和检测方法。该旋转清洗设备包括：壳体；惰轮，设置在壳体内；以及检测设备，包括：信号源、被配置成检测来自信号源的信号的检测器以及被配置为包括至少一条传导路径的传导件，其中，信号源和检测器设置于相对于旋转清洗设备的预定位置处，传导件的至少一部分设置于惰轮中，随着惰轮的旋转，传导件间隔性地将信号从信号源传导至检测器。

技术领域

本公开涉及旋转清洗设备，具体来说，涉及一种旋转清洗设备，以及用于旋转清洗设备的检测设备以及检测方法。

背景技术

在许多制造工业中，都需要对制品的表面进行清洗。例如，在半导体装置的制造中，经过使用化学机械研磨对制品(诸如晶圆)进行平坦化后，制品表面上产生大量杂质，于是，进行清洗处理变得必不可少。近年来，随着半导体装置的显著高集成化，即使极微量的杂质所造成的污染，对于装置的性能以及对制品的良率也会产生较大影响，因此，对清洗效果的要求也显著提高。

旋转清洗设备能够在清洗制品的同时旋转所清洗制品，实现对制品的全局清洗效果。例如，在使用超声波进行清洗时，由于超声波发生器一般设置于设备的底部，导致超声波产生的气泡仅能与制品邻近设备底部的一部分接触，清洗范围通常是有限的。通过旋转制品使超声波产生的气泡充分与制品表面的各个部分接触，清洗能够更加全面、充分。

发明内容

本公开的一个目的是提供一种用于旋转清洗设备的检测技术。

根据本公开的第一方面，提供了一种旋转清洗设备，其特征在于，包括：壳体；设置在壳体内的惰轮；以及检测设备，检测设备包括：信号源，被配置成检测来自信号源的信号的检测器，以及被配置为包括至少一条传导路径的传导件，其中，信号源和检测器设置于相对于旋转清洗设备的预定位置处，传导件的至少一部分设置于惰轮中，随着惰轮的旋转，传导件间隔性地将信号从信号源传导至检测器。

根据本公开的第二方面，提供了一种用于旋转清洗设备的检测设备，其特征在于，包括：信号源；检测器，被配置成检测来自信号源的信号；以及传导件，被配置为包括至少一条传导路径，其中，信号源和检测器设置于相对于旋转清洗设备的预定位置处，传导件的至少一部分设置于旋转清洗设备的惰轮中，随着惰轮的旋转，传导件间隔性地将信号从信号源传导至检测器。

根据本公开的第三方面，提供了一种用于检测旋转清洗设备中的惰轮的旋转速度的方法，其特征在于，包括：在相对于旋转清洗设备的预定位置处设置信号源和检测器；在惰轮中设置传导件；随着惰轮旋转，使传导件间隔性地将信号从信号源传导至检测器。

根据本公开的实施例的一个优点在于能够测量在旋转清洗设备中进行清洗的制品的旋转速度，从而及时发现旋转异常，以保证制品的良率。

通过以下参照附图对本公开的示例性实施例的详细描述，本公开的其它特征及其优点将会变得清楚。

附图说明

构成说明书的一部分的附图描述了本公开的实施例，并且连同说明书一起用于解释本公开的原理。

参照附图，根据下面的详细描述，可以更加清楚地理解本公开，其中：

图1A是示出根据本公开一个实施例的旋转清洗设备的前视图。

图1B是图1A中示出的旋转清洗设备中的惰轮的侧视图。

图2A和图2B分别是示出根据本公开一个实施例的旋转清洗设备中的惰轮的前视截面图和侧视图。

图3A和图3B分别是示出根据本公开一个实施例的旋转清洗设备中的惰轮的前视截面图和侧视图。

图4A是示出根据本公开一个实施例的关于旋转清洗设备中的惰轮的检测信号的时序图。

图4B是示出根据本公开一个实施例的关于旋转清洗设备中的惰轮的检测信号的时序图。