[发明专利]一种微机电系统的运动部件及其加工方法

权利要求书

1.一种微机电系统的运动部件，其特征在于，所述运动部件的侧壁形成有网状的微纳米图案；所述微纳米图案包括凸起结构以及与所述凸起结构交叉的波纹状结构；

所述凸起结构通过刻蚀工艺形成，所述凸起结构平行于刻蚀方向；

所述波纹状结构通过所述刻蚀工艺中交替进行的刻蚀和钝化过程形成，所述波纹状结构垂直于刻蚀方向；

所述凸起结构包括多个相互平行的凸起；

所述波纹状结构包括多条相互平行的条带纹；

所述运动部件的特征尺寸为0.1mm-1mm，多个凸起之间的间距为0.1μm-300μm，所述凸起的宽度为0.1μm-300μm，所述凸起的高度为0.1μm-100μm，多个凸起之间的间距与凸起的宽度比为0.5-0.9；

多个条带纹之间的间距为0.01μm-10μm，所述条带纹的宽度为0.01μm-10μm，所述条带纹的高度为0.01μm-10μm；

所述运动部件的侧壁的表面形成有表面改性层和/或分子润滑膜；

沿垂直于刻蚀方向，所述凸起的横截面的形状为正弦波形、弧形或者周期性的脉冲波形。

2.一种微机电系统的运动部件的加工方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤S1：在运动部件基体的上表面涂覆光刻胶层；

步骤S2：通过曝光和显影工艺，在光刻胶层形成凸起结构的横截面的形状；

步骤S3：通过反应离子深刻蚀工艺，在所述运动部件的侧壁形成凸起结构，在刻蚀工艺交替进行的刻蚀和钝化过程中在运动部件的侧壁形成波纹状结构，使得所述凸起结构和波纹状结构构成网状的微纳米图案，得到侧壁形成有微纳米图案的微机电系统的运动部件；

步骤S4：在侧壁形成有微纳米图案的运动部件的表面形成表面改性层和/或分子润滑膜；

刻蚀时间为5s～15s，钝化时间为5s～15s，刻蚀与钝化之间的时间间隔大于0s且小于等于1s。