[发明专利]一种ZSM-5封装的单原子层Pd催化剂及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种ZSM-5封装的单原子层Pd催化剂的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

1）将适量钯源溶解于10mL去离子水中，加入络合剂，室温下磁力搅拌1h，加入50mL乙醇，获得钯基络合物溶液；

2）将适量硅源、铝源及模板剂溶解到50~150mL去离子水中，加入氢氧化钠调节pH至10~14，以100~600rpm转速，在20~80℃下，磁力搅拌20~60 min，获得凝胶；

3）将步骤1）得到的钯基络合物溶液以0~0.05mL/s缓慢滴加到步骤2）所得的凝胶中，以100~600rpm转速，在50~100℃下，磁力搅拌2~6 h；

4）将步骤3）制备的凝胶转移至水热釜，于100~150℃晶化10~24 h，收集固体，用去离子水洗涤至滤出液为中性；

5）将固体样品置于高温炉中在氧气气氛下于100~200℃处理2~4h，然后在惰性气氛中冷却至室温，得到ZSM-5封装的单原子层Pd催化剂；

所述催化剂中硅、铝和钯的摩尔比为10: （0.5 ~1）：（0.03~0.06）。

2.根据权利要求1所述的ZSM-5封装的单原子层Pd催化剂的制备方法，其特征在于，所述钯源为氯化钯、硝酸钯、氯钯酸钾、二氯二氨钯、乙酰丙酮钯中的任意一种。

3.根据权利要求1所述的ZSM-5封装的单原子层Pd催化剂的制备方法，其特征在于，所述硅源为硅胶、水玻璃、硅酸钠、气相二氧化硅、正硅酸乙酯中的任意一种。

4.根据权利要求1所述的ZSM-5封装的单原子层Pd催化剂的制备方法，其特征在于，所述铝源为偏铝酸钠、拟薄水铝石、异丙醇铝、硝酸铝中的任意一种。

5.根据权利要求1所述的ZSM-5封装的单原子层Pd催化剂的制备方法，其特征在于，所述模板剂为四丙基氢氧化铵、四丙基溴化铵、十六烷基三甲基溴化铵、泊洛沙姆中的任意一种。

6.根据权利要求1所述的ZSM-5封装的单原子层Pd催化剂的制备方法，其特征在于，模板剂与硅源的摩尔比为5~10。