[发明专利]宽幅等离子表面处理装置

说明书

技术领域

本发明涉及等离子技术领域，尤其涉及宽幅等离子表面处理装置。

背景技术

等离子体，又称为等离子态。等离子态下的物质具有类似于气态的性质，比如良好的流动性和扩散性。但是，由于等离子体的基本组成粒子是离子和电子，因此它也具有许多区别于气态的性质，比如良好的导电性、导热性。特别的，根据科学计算，等离子体的比热容与温度成正比，高温下等离子体的比热容往往是气体的数百倍。所以等离子体的应用非常的广泛，从我们的日常生活到工业、农业、环保、军事、宇航、能源、天体等方面，它都有非常重要的应用价值。

现有的等离子表面处理装置只有一个喷嘴，生产效率十分低下。所以有必要提供一种具有多个喷嘴生产效率高的宽幅等离子表面处理装置。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是：提供一种生产效率高的宽幅等离子表面处理装置。

为了解决上述技术问题，本发明采用的技术方案为：宽幅等离子表面处理装置，包括封闭的盒体，盒体内设有封板和位于封板的下方的绝缘的固定板，所述封板和固定板将所述盒体的内腔隔断为进气区、匀气区及出气区，所述出气区位于固定板与盒体的底板之间，所述封板上设有至少一个连通进气区与匀气区的第一通孔，所述固定板上设有至少一个连通匀气区与出气区的第二通孔；所述盒体上设有至少一个与所述进气区相连通的进气口；所述盒体的底板上设有多个第三通孔，每个所述第三通孔上均固定有一个喷嘴，所述固定板上固定有多个电极组件，所述电极组件与所述喷嘴一一对应设置且电极组件的一部分位于所述喷嘴内，盒体上固定有高压线，所述高压线通过固定板上的电路与所述电极组件导通。

本发明的有益效果在于：本发明提供的宽幅等离子表面处理装置具有多个喷嘴，大大提高了等离子表面处理装置生产、处理待加工物体的效率；处理待加工物体的效果也具有明显的提升；结构简单、制造容易，值得推广应用。

附图说明

图1为本发明实施例一的宽幅等离子表面处理装置的整体结构的示意图；

图2为本发明实施例一的宽幅等离子表面处理装置的爆炸图；

图3为本发明实施例一的宽幅等离子表面处理装置的剖视图；

图4为本发明实施例一的宽幅等离子表面处理装置中的底板的透视图。

标号说明：

1、盒体；11、顶板；12、底板；121、第三通孔；13、外框体；

14、内框体；2、封板；21、第一通孔；3、固定板；31、第二通孔；

4、进气区；5、匀气区；6、出气区；7、喷嘴；8、电极组件；

81、电极固定轴；82、电极；9、高压线；10、冷却通道；20、进气口；

101、第一环槽；102、第二环槽；103、第三环槽；104、第四环槽。

具体实施方式

为详细说明本发明的技术内容、所实现目的及效果，以下结合实施方式并配合附图予以说明。

本发明最关键的构思在于：等离子表面处理装置上设置多个喷嘴。

请参照图1至图4，宽幅等离子表面处理装置，包括封闭的盒体1，盒体1内设有封板2和位于封板2的下方的绝缘的固定板3，所述封板2和固定板3将所述盒体1的内腔隔断为进气区4、匀气区5及出气区6，所述出气区6位于固定板3与盒体1的底板12之间，所述封板2上设有至少一个连通进气区4与匀气区5的第一通孔21，所述固定板3上设有至少一个连通匀气区5与出气区6的第二通孔31；所述盒体1上设有至少一个与所述进气区4相连通的进气口20；所述盒体1的底板12上设有多个第三通孔121，每个所述第三通孔121上均固定有一个喷嘴7，所述固定板3上固定有多个电极组件8，所述电极组件8与所述喷嘴7一一对应设置且电极组件8的一部分位于所述喷嘴7内，盒体1上固定有高压线9，所述高压线9通过固定板3上的电路与所述电极组件8导通。

本发明的结构/工作原理简述如下：电极组件8作为阴极，喷嘴7的内壁作为阳极，工作气流依次经由进气口20、第一通孔21、第二通孔31及电极组件8与喷嘴7之间的缝隙排出，工作气流在所述缝隙处电离，形成等离子体喷出。其中进气区4与匀气区5的作用在于降低工作气流的流速，从而使得进入出气区6的工作气流平缓、均匀，进而让喷嘴7喷出的等离子体更均匀。工作气流的气体包括但不限于氧气、氩气、氮气及压缩空气。所述电路包括但不限于通过电阻电容的方式整流及控制外加电场或高频高压感应电场的能量转换的构造。