[发明专利]显示基板检测设备的机差补偿方法及装置、检测设备有效
申请号: | 201711160927.1 | 申请日: | 2017-11-20 |
公开(公告)号: | CN108007410B | 公开(公告)日: | 2019-12-10 |
发明(设计)人: | 戚海平 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
主分类号: | G01B21/04 | 分类号: | G01B21/04 |
代理公司: | 11415 北京博思佳知识产权代理有限公司 | 代理人: | 林祥 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示 检测 设备 补偿 方法 装置 | ||
本发明涉及显示基板检测设备的机差补偿方法及装置、检测设备,该补偿方法包括:获取基础的位置偏差数据,所述基础的位置偏差数据为采用基准检测设备对显示基板上形成的图案进行位置检测生成的;获取各次的位置偏差数据,所述各次的位置偏差数据为采用待调整检测设备对所述显示基板上形成的图案进行多次重复位置检测生成的;根据所述基础的位置偏差数据和各次的位置偏差数据生成位置偏差参考补偿值,以对待调整检测设备在检测中生成的位置偏差数据进行补偿。该方法可以减小检测设备的测量机差,有效改善检测设备的测量结果准确度和有效性。
技术领域
本发明涉及半导体技术领域,尤其涉及显示基板检测设备的机差补偿方法及装置、检测设备。
背景技术
OLED(Active Matrix/Organic Light Emitting Diode)显示器件为一种主动发光的显示器件,在OLED显示器件包括衬底基板,衬底基板上形成有矩阵排列的有机发光单元的图案,目前可采用精细金属掩膜板,通过蒸镀法在衬底上形成有机发光单元的图案。
在衬底基板上制备完有机发光单元的图案后,通常需要对图案进行检测,检测合格后进行后续的电路板焊接等制备步骤。
目前可采用专门的检测设备对形成的有机发光单元的图案进行检测,主要检测形成的各图案的位置偏差,偏差大小很大程度上影响形成最终的OLED显示器件的品质。
对于检测设备而言,即使相同型号的不同设备,各设备之间的灵敏度也有差异,因此,不可避免产生测量差异,不同设备之间的测量差异可称为测量机差,经过试验测试表明测量机差可达到10um左右,远远超出可接受的2um的机差范围,造成对有机发光单元的图案进行检测的测量结果的准确性和有效性,因此,需要一种能够有效改善检测设备的测量结果准确度的方法。
发明内容
本发明提供一种显示基板检测设备的机差补偿方法及装置、检测设备,以解决相关技术中的不足。
根据本发明实施例的第一方面,提供一种显示基板检测设备的机差补偿方法,包括:
获取基础的位置偏差数据,所述基础的位置偏差数据为采用基准检测设备对显示基板上形成的图案进行位置检测生成的;
获取各次的位置偏差数据,所述各次的位置偏差数据为采用待调整检测设备对所述显示基板上形成的图案进行多次重复位置检测生成的;
根据所述基础的位置偏差数据和各次的位置偏差数据生成位置偏差参考补偿值,以对待调整检测设备在检测中生成的位置偏差数据进行补偿。
可选的,所述根据所述基础的位置偏差数据和各次的位置偏差数据生成位置偏差参考补偿值,包括:
根据所述基础的位置偏差数据和待调整检测设备其中一次检测生成的位置偏差数据生成位置偏差理论补偿值;
根据待调整检测设备多次重复检测生成的各次的位置偏差数据生成位置偏差重复性补偿值;
根据所述位置偏差理论补偿值和所述位置偏差重复性补偿值生成位置偏差参考补偿值。
可选的,所述根据所述基础的位置偏差数据和待调整检测设备其中一次检测生成的位置偏差数据生成位置偏差理论补偿值,包括:
将所述基础的位置偏差数据与待调整检测设备其中一次检测生成的位置偏差数据的差值作为所述位置偏差理论补偿值;
所述根据所述待调整检测设备多次重复检测生成的各次的位置偏差数据生成位置偏差重复性补偿值,包括;
将待调整检测设备多次重复检测生成的各次的位置偏差数据的平均值作为所述位置偏差重复性补偿值;
所述根据所述位置偏差理论补偿值和所述位置偏差重复性补偿值生成位置偏差参考补偿值,包括:
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