[发明专利]一种研磨手臂盖板

说明书

技术领域

本发明涉及化学机械研磨的技术领域，尤其涉及一种研磨手臂盖板的技术领域。

背景技术

我们现在的存在的问题是：化学机械研磨(CMP)的研磨垫(pad)是通过计算机(PC)来进行校正的。每次计算机做完校正后都会返回研磨平台 (platen)旁边固定清洗位置进行清洗。由于是喷嘴的喷出的水雾清洗，清洗的过程中会有水沉积在计算机盖板上。

由于盖板是平面的盖板，水沉积在盖板上，在研磨的过程中水很容易滴落到研磨垫上，造成研磨平台的研磨速率异常，造成不必要的宕机检查，影响机台的正常运行时间(uptime)。

发明内容

针对上述不足，本发明的目的是提供一种研磨手臂盖板，使得水不会沉积在盖板上，研磨过程中不会有盖板上的水滴落到研磨垫上。

为了达到上述目的，本发明采用以下技术方案：

一种研磨手臂盖板，其中，包括：

所述研磨手臂盖板的俯视图呈一腰形，所述腰形包括一矩形图形和两半圆图形；每一所述半圆图形的直径所在边贴合所述矩形图形的长度方向的一边；所述半圆图形的直径等于所述矩形图形的宽度；

所述研磨手臂盖板的截面为一三角形。

上述的一种研磨手臂盖板，其中，每一所述斜面的斜度小于7度。

上述的一种研磨手臂盖板，其中，所述矩形图形所在部分的截面为等腰三角形。

上述的一种研磨手臂盖板，其中，所述半圆图形所在部分为一半圆锥体，所述半圆锥体的是以一直角三角形沿其高度方向的直角边旋转一周得到的几何体；所述直角三角形为所述等腰三角形沿其高度方向的一半。

一种机台，包括上述的研磨手臂盖板。

一种化学机械抛光机台，包括一喷嘴和研磨手臂盖板，所述研磨手臂盖板设置于所述喷嘴下方，所述研磨手臂盖板采用上述的研磨手臂盖板。

用以上技术方案，能够达到如下有益效果：

1、本发明是把研磨手臂盖板做成带角度的盖板来替换现有的平面的盖板，使得水不会沉积在研磨手臂盖板上，研磨过程中不会有研磨手臂盖板上的水滴落到研磨垫上。

附图说明

图1是本发明的一种研磨手臂盖板的俯视图；

图2是本发明的一种研磨手臂盖板的侧视图；

图3是本发明的一种研磨手臂盖板的立体图。

附图中：1、研磨手臂盖板；11、矩形图形；111、斜面；12、半圆图形。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施例对本发明作进一步说明，但不作为本发明的限定。

图1是本发明的一种研磨手臂盖板的俯视图。图2是本发明的一种研磨手臂盖板的侧视图。图3是本发明的一种研磨手臂盖板的立体图。

请参见图1至图3所示，在一种较佳的实施例中，一种研磨手臂盖板，其中，包括：

研磨手臂盖板1的俯视图呈一腰形，腰形包括一矩形图形11和两半圆图形12；每一半圆图形12的直径所在边贴合矩形图形11的长度方向的一边；半圆图形12的直径等于矩形图形11的宽度。

矩形图形所在部分的截面为一三角形，矩形部分11所在部分的宽度方向的两侧构成斜面111。

以上仅为本发明较佳的实施例，并非因此限制本发明的实施方式及保护范围。

进一步，在一种较佳实施例中，每一斜面111的斜度小于7度。

进一步，在一种较佳实施例中，矩形图形11所在部分的截面为等腰三角形。

进一步，在一种较佳实施例中，半圆图形12所在部分为一半圆锥体，半圆锥体的是以一直角三角形沿其高度方向的直角边旋转一周得到的几何体；直角三角形为等腰三角形沿其高度方向的一半。

本发明是把研磨手臂盖板做成带角度的盖板来替换现有的平面的盖板，使得水不会沉积在研磨手臂盖板上，研磨过程中不会有研磨手臂盖板上的水滴落到研磨垫上。

以上仅为本发明较佳的实施例，并非因此限制本发明的实施方式及保护范围，对于本领域技术人员而言，应当能够意识到凡运用本发明说明书及图示内容所作出的等同替换和显而易见的变化所得到的方案，均应当包含在本发明的保护范围内。