[发明专利]基于污染阻控的地下水中LNAPL污染修复系统及方法有效
申请号: | 201711154885.0 | 申请日: | 2017-11-17 |
公开(公告)号: | CN107935066B | 公开(公告)日: | 2020-11-10 |
发明(设计)人: | 姜永海;杨昱;马志飞;彭星;廉新颖;席北斗;贾永锋 | 申请(专利权)人: | 中国环境科学研究院 |
主分类号: | C02F1/00 | 分类号: | C02F1/00;C02F103/06 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 喻颖 |
地址: | 100012 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 污染 地下 水中 lnapl 修复 系统 方法 | ||
1.一种基于污染阻控的地下水中LNAPL污染修复系统,其特征在于,包括垂直阻隔墙、抽出处理单元和回灌系统;其中,
所述垂直阻隔墙由HDPE土工膜构成,所述HDPE土工膜上端位于地表面以上,下端位于受污染目标含水层水位下方0.5~1m,从而所述垂直阻隔墙围成一限定范围,将受LNAPL污染的地下水的至少上半部分阻隔在所述限定范围内;
所述抽出处理单元包括抽出管路和处理单元,其中所述抽出管路位于所述垂直阻隔墙围成的限定范围之内,用于将所述受LNAPL污染的地下水抽出到所述处理单元中处理后再注入回灌系统;
所述回灌系统布设在所述抽出管路与所述垂直阻隔墙之间,用于将增溶剂和所述处理单元处理后的地下水回灌到所述地下水流道中,所述回灌系统由若干渗流槽组成,所述渗流槽呈圆周布设,第n层的渗流槽圆周的半径rn=Rn/m;其中,R为最外层渗流槽圆周的半径,m为总层数,最内层为第一层;所述最内层渗流槽与所述抽出管路的间距为1~2m。
2.根据权利要求1所述的基于污染阻控的地下水中LNAPL污染修复系统,其特征在于,所述抽出管路底部位于受污染含水层水位下方0.3~0.5m。
3.根据权利要求1所述的基于污染阻控的地下水中LNAPL污染修复系统,其特征在于,所述抽出管路的管径为300~400mm。
4.根据权利要求1所述的基于污染阻控的地下水中LNAPL污染修复系统,其特征在于,所述渗流槽上部与地表面平齐,下部位于所述垂直阻隔墙底部上方30~50mm。
5.一种基于污染阻控的地下水中LNAPL污染的修复方法,利用权利要求1~4任一项所述的基于污染阻控的地下水中LNAPL污染修复系统,其特征在于,具体步骤为:将受污染地下水由抽出管路输送至处理单元,净化处理后的水中加入增溶剂后通过回灌系统进入目标含水层,间隔一段时间后再次抽水,重复上述修复过程,利用回灌水带入增溶剂的方式循环往复的溶出LNAPL,实现对受污染地下水的高效修复。
6.根据权利要求5所述的基于污染阻控的地下水中LNAPL污染的修复方法,其特征在于,所述垂直阻隔墙和所述最外层的渗流槽在垂直开槽后同时布设。
7.根据权利要求5所述的基于污染阻控的地下水中LNAPL污染的修复方法,其特征在于,所述回灌系统根据污染场地情况分层布设。
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