[发明专利]地质透镜体的二维构建方法在审

专利信息
申请号: 201711144030.X 申请日: 2017-11-17
公开(公告)号: CN107978006A 公开(公告)日: 2018-05-01
发明(设计)人: 张晨;张利国;陈则连;李红旭;张戎垦 申请(专利权)人: 中国铁路设计集团有限公司
主分类号: G06T11/20 分类号: G06T11/20
代理公司: 天津市鼎和专利商标代理有限公司12101 代理人: 崔立增
地址: 300142*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 地质 透镜 二维 构建 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及地质断面构建技术领域,特别是涉及一种地质透镜体的二维构建方法。

背景技术

二维地质断面是传统工程勘察中掌握场区内地质情况的重要步骤和手段。伴随着计算机技术的蓬勃发展,地质断面的成图过程也逐渐朝着信息化的方向发展。但在工程应用方面,受到一定程度的制约,主要表现为:

一方面,工程地质条件的复杂性,由于对地下情况的认知难度。地质体在构造形成过程中形成了复杂的空间结构和拓扑关系,根据其工程特性的不同又被工程人员划分成多种地层,使整个地质环境的认知更具复杂性和非线性;目前可用的勘察技术只能获取有限的地质信息,主要为点状的钻孔信息,很难全面展示出工程范围内的地质情况,更多的需要地质工程师结合自身经验进行判断和推理;

另一方面,二维成图逻辑的不完整性。由点状信息到二维的线状地层断面信息,这一过程本身就倾注了大量专家经验在其中。这些经验很难完整的用计算机语言进行表达,因此就造成目前的二维成图软件都很难实现完全自动的二维断面连层,即便连接出来,也很难满足要求,无法贴近实际情况。尤其是针对线状工程特点的逻辑更是稀少。

发明内容

本发明要解决的技术问题是:提供一种地质透镜体的二维构建方法;针对线状工程的特点,发明了贴近工程需要的二维地质断面透镜体绘制方法。线状工程勘察设计的特点:采用以钻探、原位测试(静力触探、动力触探、标准贯入试验等)为主,调绘、物探、简易勘探等手段为辅的综合勘探方法,主要沿线路方向进行纵断面勘察,辅以一定量的横断面勘察,查明线状工程场地的工程地质条件,设计专业以纵断面、横断面等为基础进行施工图设计。鉴于此,结合线状工程勘察涉及范围广,地形变化多样的特点,在二维地质断面生成过程中,每次只考虑相邻两个钻孔间的地质情况,在面对两个地层分界点透镜体关系判断时,同时考虑地层分界点的上、下方双地层属性、分界点间的埋深差和透镜体自身的厚度,进行二维透镜体的自动连层工作。

本发明为解决公知技术中存在的技术问题所采取的技术方案是:

一种地质透镜体的二维构建方法,包括如下步骤:

S1、基础数据准备:通过工程地质资料数据库得到各钻孔地质分界点的具体位置、钻孔得到的各层岩土名称、时代成因、地层编号;

S2、标注地层:遍历所有基础数据中的地层信息,将对应的岩土名称、时代成因、地层编号赋予对应的钻孔编号;

S3、钻孔排序:按照里程从小到大的顺序,将钻孔排列起来,以相邻两个钻孔作为研究对象;

S4、正向封闭透镜体:遍历所有地层分界点,当钻孔A的某地层分界点的上方地层属性与下一个地层分界点的下方地层属性相同,且钻孔B内埋深差小于5m范围内均不存在相同地层,且该地层厚度小于3m时,在相邻钻孔之间1/2处封闭透镜体;

S5、反向封闭透镜体:遍历所有地层分界点,当钻孔B的某地层分界点的上方地层属性与下一个地层分界点的下方地层属性相同,且钻孔A内埋深差小于5m范围内均不存在相同地层,且该地层厚度小于3m时,在相邻钻孔之间1/2处封闭透镜体。

本发明具有的优点和积极效果是:

(1)本发明根据地层分界面的埋深差进行透镜体连线的逻辑,考虑了地形的起伏影响,能够让二维透镜体的绘制更贴近真实情况。

(2)本发明根据双属性信息判断同一地质体的方法可以很好的考虑了地层的上下层关系,有利于连线结果的合理性。

(3)本发明的工作基础为点状的钻探信息,逻辑判断时每次只考虑两个相邻钻孔,逻辑编译成计算机程序,运行效率很高。

(4)本发明考虑了透镜体自身的厚度限制,能够更合理的识别出具备透镜体性质的地层。

附图说明

图1是本发明优选实施例的流程图;

图2是本发明优选实施例中的案例示意图;

具体实施方式

为能进一步了解本发明的发明内容、特点及功效,兹例举以下实施例,并配合附图详细说明如下:

请参阅图1,一种地质透镜体的二维构建方法,包括:

S-1、基础数据准备:通过工程地质资料数据库得到各钻孔地质分界点的具体位置、钻孔得到的各层岩土名称、时代成因、地层编号等;

S-2、标注地层:遍历所有基础数据中的地层信息,将对应的岩土名称、时代成因、地层编号等赋予对应的钻孔编号;

S-3、钻孔排序:按照里程从小到大的顺序,将钻孔排列起来,以相邻两个钻孔作为研究对象,如图2所示;

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