[发明专利]阵列基板、显示面板、显示设备及阵列基板的制作方法有效
申请号: | 201711143426.2 | 申请日: | 2017-11-17 |
公开(公告)号: | CN107797352B | 公开(公告)日: | 2020-06-05 |
发明(设计)人: | 邓竹明;柳铭岗 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1362 | 分类号: | G02F1/1362;G02F1/1343;G02F1/1333 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝传鑫;熊永强 |
地址: | 518132 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 阵列 显示 面板 设备 制作方法 | ||
1.一种阵列基板,其特征在于,包括:
第一基板和数据线,所述数据线设置于所述第一基板上;
辅助电极,设置于所述第一基板上,所述辅助电极用于电连接至彩膜基板的公共电极,所述辅助电极在所述第一基板的垂直投影与所述数据线不相交;
绝缘层,设置于所述辅助电极背离所述第一基板一侧的表面上,所述绝缘层设有开孔;
遮光电极,包括互连为一体的主体段与突出段,所述主体段位于所述数据线背离所述第一基板的一侧,并且所述主体段在所述第一基板的垂直投影覆盖所述数据线,所述突出段位于所述绝缘层上,并且所述突出段穿过所述开孔接触所述辅助电极。
2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述突出段在所述第一基板的垂直投影覆盖所述开孔。
3.根据权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,所述阵列基板还包括设置于所述第一基板上的像素电极,所述辅助电极在所述第一基板上的垂直投影至少部分位于所述数据线与所述像素电极之间,所述辅助电极用于降低所述数据线对所述像素电极的影响。
4.根据权利要求3所述的阵列基板,其特征在于,所述绝缘层包括栅极绝缘层和钝化层,在所述突出段在所述第一基板的垂直投影范围内,所述栅极绝缘层与所述钝化层依次层叠设置于所述辅助电极上,所述第一基板上还设有薄膜晶体管,所述栅极绝缘层位于所述薄膜晶体管的栅极与源极、漏极之间,所述钝化层位于所述薄膜晶体管的源极或漏极与所述像素电极之间。
5.一种显示面板,其特征在于,包括彩膜基板、液晶层及权利要求1至4任意一项所述的阵列基板,所述彩膜基板与所述阵列基板相对设置,所述液晶层位于阵列基板与彩膜基板之间,并根据阵列基板与彩膜基板之间的压差改变所述液晶层的液晶分子偏转。
6.一种显示设备,其特征在于,包括背光模组及权利要求5所述的显示面板,所述背光模组设置于所述液晶显示面板的非显示面一侧,以提供背光源使所述液晶显示面板显示图像。
7.一种阵列基板的制作方法,其特征在于,包括:
提供第一基板,在所述第一基板上形成第一金属层,图案化所述第一金属层形成辅助电极,所述辅助电极用于电连接至彩膜基板的公共电极;
在所述第一基板上形成第二金属层,图案化所述第二金属层形成数据线,所述数据线在所述第一基板的垂直投影与所述辅助电极不相交;
在所述辅助电极背离所述第一基板一侧的表面上形成绝缘层,并在所述绝缘层设置开孔;
形成导电层于所述第一基板上,图案化所述导电层形成遮光电极,所述遮光电极包括互连为一体的主体段与突出段,所述主体段位于所述数据线背离所述第一基板的一侧,并且所述主体段在所述第一基板的垂直投影覆盖所述数据线,所述突出段位于所述绝缘层上,并且所述突出段穿过所述开孔接触所述辅助电极。
8.根据权利要求7所述的阵列基板的制作方法,其特征在于,形成所述数据线之前,图案化所述第一金属层形成栅极,并形成栅极绝缘层于所述栅极上,形成所述数据线的过程中,图案化所述第二金属层形成源极和漏极,所述数据线电连接至所述源极或所述漏极,形成所述数据线之后,形成钝化层于所述源极和所述漏极上,所述栅极绝缘层与所述钝化层依次层叠于所述辅助电极上形成所述绝缘层。
9.根据权利要求7所述的阵列基板的制作方法,其特征在于,图案化所述导电层形成所述遮光电极的过程中,图案化所述导电层形成像素电极,所述辅助电极在所述第一基板上的垂直投影至少部分位于所述数据线与所述像素电极之间,所述辅助电极用于降低所述数据线对所述像素电极的影响。
10.根据权利要求7所述的阵列基板的制作方法,其特征在于,所述突出段在所述第一基板的垂直投影覆盖所述开孔。
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