[发明专利]一种新型的实时监控光刻胶喷涂系统及工作方法

说明书

技术领域

本发明涉及集成电路制造技术的技术领域，尤其涉及一种实时监控光刻胶喷涂系统的技术领域。

背景技术

随着集成电路技术不断向物理极限靠近，对于光刻工艺中的光刻胶涂布控制也是越来越精细，举例浸没式光刻来说，光刻胶的喷涂量通常只有2ml，所得到的光刻胶的膜厚通常薄至一千埃到三千埃(注：1埃＝1^-10米)，而光刻胶涂布情况会直接影响到产品图形精确地从掩模版传递到晶圆表面。如何控制好光刻胶涂布，是光刻所面对的一个重要的挑战之一。

现有对光刻胶涂布的监控主要是对光刻涂布机的光刻胶压缩泵的工作周期和工作时的压力的监控，其缺点在于监控泵的情况不能完全代表光刻胶在晶圆上的涂布状况，且有滞后性；且如果光刻胶管路内有少量残留气泡，机台将无法侦测到，最终涂布在晶圆上的结果就是涂布不良。

发明内容

针对上述不足，本发明的目的是提供一种新型的实时监控光刻胶喷涂系统，通过实时检测光刻胶涂布情况可以及时发现涂布不正常的现象，减少了产品的返工率和废品率，提高了生产效果。

为了达到上述目的，本发明采用以下技术方案：

一种新型的实时监控光刻胶喷涂系统，其中，包括：

光刻胶瓶；

光刻胶储存罐，所述光刻胶储存罐的入口端连接所述光刻胶瓶的出口端；

光刻胶供应系统，所述光刻胶供应系统包括光刻胶过滤器、光刻胶压缩泵和流量调节阀；所述光刻胶过滤器安装于所述光刻胶压缩泵的入口端处；所述光刻胶储存罐的出口端连接所述光刻胶过滤器的入口端，所述光刻胶过滤器的出口端连接所述光刻胶压缩泵的入口端；所述流量调节阀的入口端连接所述光刻胶压缩泵的出口端；

喷嘴，所述喷嘴的入口端连接所述流量调节阀的出口端；

红外线检测器，所述红外线检测器设置于所述喷嘴上；所述红外线检测器连接涂布控制单元，所述涂布控制单元连接机台通信系统，所述机台通信系统连接机台运行数据整合系统。

上述一种新型的实时监控光刻胶喷涂系统，其中，所述红外检测器能监控光刻胶实际开始涂布和的结束涂布的时间。

上述一种新型的实时监控光刻胶喷涂系统，其中，所述光刻胶可采用I-line，Krf，Arf的光刻胶和抗反射料、填充材料和防水膜等。

一种新型的实时监控光刻胶喷涂系统的工作方法，其特征在于，包括上述一种新型的实时监控光刻胶喷涂系统，所述工作方法包括：

步骤一、当涂布机开始工作时，所述涂布控制单元根据设定的程序将信号发送至所述光刻胶供应系统；

步骤二、将光刻胶从所述光刻胶瓶输送至所述光刻胶储存罐，再经由所述光刻胶过滤器、所述光刻胶压缩泵和所述流量调节阀；之后所述喷嘴将所述光刻胶按照既定程序涂布在晶圆上；

步骤三、所述喷嘴将所述光刻胶开始涂布时，所述红外线检测器会检测到所述光刻胶开始喷涂，并将发送信号至所述涂布控制单元，当涂布完成时所述红外线检测器也会侦测到并将信号发送所述涂布控制单元；

步骤四、所述涂布控制单元根据所述红外线检测器所反馈的信号计算出实际的涂布时间，通过所述机台通信系统将得到的数据反馈到所述机台运行数据整合系统中并和程序设定的理论涂布时间做比对来判定涂布是否正常；

步骤五、如果发生涂布时间异常就会实时反应在所述机台运行数据整合系统中，并将受到影响得产品及时逮到，待工程师处理。

用以上技术方案，能够达到如下有益效果：

1、本发明通过实时检测光刻胶涂布情况可以及时发现涂布不正常的现象。

附图说明

图1是本发明的一种新型的实时监控光刻胶喷涂系统的原理图。

附图中：1、光刻胶瓶；2、光刻胶储存罐；3、喷嘴；4、光刻胶供应系统；41、光刻胶过滤器；42、光刻胶压缩泵；43、流量调节阀；5、红外线检测器；61、涂布控制单元；62、机台通信系统；63、机台运行数据整合系统。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施例对本发明作进一步说明，但不作为本发明的限定。

图1是本发明的一种新型的实时监控光刻胶喷涂系统的原理图。

请参见图1所示，在一种较佳的实施例中，一种新型的实时监控光刻胶喷涂系统，其特征在于，包括：

光刻胶瓶1。

光刻胶储存罐2，光刻胶储存罐2的入口端连接光刻胶瓶1的出口端。