[发明专利]彩膜基板和显示装置有效

专利信息
申请号: 201711135082.0 申请日: 2017-11-15
公开(公告)号: CN107765475B 公开(公告)日: 2019-12-24
发明(设计)人: 郭伟桓;林丽锋;方涛;宋聪 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;福州京东方光电科技有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335
代理公司: 11021 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 陈平
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 彩膜基板 显示装置
【说明书】:

本公开提供一种彩膜基板和显示装置。彩膜基板包含衬底基板;黑矩阵;第一色阻;平坦层,所述平坦层位于所述衬底基板和所述黑矩阵之间并且具有开口;和第一色偏补偿层,所述第一色偏补偿层位于平坦层的开口中,其中第一色的光在与所述衬底基板的垂直方向偏离角度α的方向上通过所述第一色阻,所述第一色偏补偿层将通过所述第一色阻的第一色的光至少部分地转变成第二色的光或第三色的光,其中所述第一色的光的波长长于所述第二色的光的波长,并且所述第二色的光的波长长于所述第三色的光的波长,其中角度α大于或等于0度并且小于90度。由此,可以降低左右视角的色偏。

技术领域

本公开涉及显示领域。具体地,本公开涉及一种彩膜基板和显示装置。

背景技术

包含具有三色阻的彩膜基板的显示器产品一般存在左右视角有色偏的问题。例如,在包含具有RGB色阻的彩膜基板的显示器产品一般存在左右视角偏红的色偏问题。

发明内容

因此,需要提供一种可以降低左右视角色偏的彩膜基板和显示装置。

在一个方面,本公开提供一种彩膜基板,包括:

衬底基板,

黑矩阵,所述黑矩阵包括沿第一方向的多条第一黑矩阵条和沿第二方向的多条第二黑矩阵条,所述多条第一黑矩阵条和所述多条第二黑矩阵条交错构成矩阵式排布的多个网格区域,其中所述多个网格区域至少包括第一网格区域;

第一色阻,所述第一色阻位于所述第一网格区域内;

平坦层,所述平坦层位于所述衬底基板和所述黑矩阵之间并且具有开口,和

第一色偏补偿层,所述第一色偏补偿层位于所述平坦层的开口中,其中第一色的光在与所述衬底基板的垂直方向偏离角度α的方向上通过所述第一色阻,所述第一色偏补偿层将通过所述第一色阻的第一色的光至少部分地转变成第二色的光或第三色的光,其中所述第一色的光的波长长于所述第二色的光的波长,并且所述第二色的光的波长长于所述第三色的光的波长,角度α大于或等于0度并且小于90度。

在一个实施方案中,所述开口与所述第一色阻一一对应;所述第一色偏补偿层在所述衬底基板上的正投影覆盖所述第一色阻在所述衬底基板上的正投影;并且由构成所述第一网格区域的两个第一黑矩阵条和两个第二黑矩阵条形成的投影区域在所述衬底基板上的正投影覆盖所述第一色偏补偿层在所述衬底基板上的正投影。

在另一个实施方案中,所述第一色偏补偿层的厚度为1mm至5mm。

在另一个实施方案中,所述彩膜基板还包含第二色阻和第三色阻,其中所述多个网格区域还包括第二网格区域和第三网格区域,并且所述第二色阻位于所述第二网格区域内,且所述第三色阻位于所述第三网格区域内;并且

所述开口与选自所述第一色阻、所述第二色阻和所述第三色阻中的一个色阻相邻的所述第二黑矩阵条一一对应,并且所述第一色偏补偿层在所述衬底基板上的正投影被选自所述第一色阻、所述第二色阻和所述第三色阻中的所述一个色阻相邻的所述第二黑矩阵条在所述衬底基板上的正投影覆盖。

在另一个实施方案中,所述第一色偏补偿层包含光致各向同性变色材料,所述光致各向同性变色材料受第一色的光激发产生光致变色效应,通过所述光致各向同性变色材料后将第一色的光转化成第二色的光或第三色的光。

在另一个实施方案中,所述光致各向同性变色材料包括MoO3

在另一个实施方案中,所述第一色偏补偿层包含光致各向异性变色材料,其中随着角度α增大,所述第一色的光被所述光致各向异性变色材料转变成的第二色的光或第三色的光增加。

在另一个实施方案中,所述光致各向异性变色材料选自由以下材料组成的组:二芳基乙烯、吡咯俘精酸酐或它们的混合物。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;福州京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;福州京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711135082.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top