[发明专利]基片的预对准方法

说明书

本发明涉及一种基片的预对准方法，该基片的预对准方法通过在基片上投影一幅特征图像和测距图像来确定边缘上边缘点的坐标，并根据边缘点坐标来计算基片的倾斜角度和基片中心坐标，最后通过移动工件台来使基片中心坐标和成像中心坐标对准，实现快速高效高精度的预对准工作。与现有技术相比该基片的预对准方法有着无需增加现有直写设备硬件成本、步骤简单、预对准精度高的优势。

技术领域

本发明涉及一种基片的预对准方法。

背景技术

激光无掩膜直写通过图形发生器将图形直接成像在光刻基板表面从而进行光刻，虽然其与传统掩膜曝光相比没有多套掩膜层与层之间的套刻步骤，但直写系统有一个常见的应用场景是通过Mark识别标记在现有基板上实现与现有图形的套刻。由于Mark识别采用高倍率的镜头视场有限，如果基板的初始放置位置、角度超出镜头的视场范围，可能导致后道的Mark识别失败。因此，在进行Mark识别前需要做一个初步的预对准工作。

中国专利CN102338991A公开了一种激光位移传感器控制的预对准方法，采用了一种灵活的预对准方法，把掩膜板放置在高精准平台上，利用激光位移传感器自动寻找边界，计算掩膜板中心点，实现精确的预对准功能。

上述预对准方法虽然存在以下优点：

直接利用可控的高精准平台移动和激光位移传感器精确计算掩膜板中心，能够在光刻过程中保证每个版图中心都和掩膜板中心重合，从而避免了由于掩膜板放置偏差而导致制版失败带来的高成本问题，采用本发明方法可为光刻中标准版的制作提供简单快捷的预对准方法。

但依然存在以下不足：

该方法一方面需要安装激光位移传感器增加了硬件成本，另一方面激光位移传感器测量位置与CCD成像位置非同轴同一位置，因此平台在两个坐标之间需要来回切换步骤繁琐，增加了预对准时间。

基于上述原因，有必要提供一种简便的、高效且高精度的基片的预对准方法。

发明内容

本发明的目的在于提供一种基片的预对准方法，该方法可实现快速高效高精度的预对准工作。

为达到上述目的，本发明提供如下技术方案：一种基片的预对准方法，包括以下步骤：

将所述基片置于工件台上，以所述工件台为基准面建立坐标系，设定所述坐标系的x轴方向及y轴方向，使直写镜头与所述基片之间的距离处于成像焦距内；

在所述基片上呈现特征图像和测距图像，获得至少五个边缘点的坐标，其中至少两个所述边缘点位于同一个所述边缘上的不同部位，其中四个所述边缘点分别取自不同的四个所述边缘上；

根据位于同一所述边缘上的两个所述边缘点的坐标确定所述基片的倾斜角度；

根据所述倾斜角度，将所述基片转正，获得转正后所述基片的中心坐标。

为达到上述目的，本发明还提供如下技术方案：一种基片的预对准方法，包括以下步骤：

将所述基片置于工件台上，以所述工件台为基准面建立坐标系，设定所述坐标系的x轴方向及y轴方向，使直写镜头与所述基片之间的距离处于成像焦距内；

在所述基片上呈现特征图像和测距图像，获得两个边缘点的坐标，两个所述边缘点位于同一个所述边缘上的不同部位；根据位于同一所述边缘上的两个所述边缘点的坐标确定所述基片的倾斜角度；

通过所述特征图像和测距图像在所述基片的其他至少三个所述边缘上确定所述边缘点的坐标；

根据所述倾斜角度，将所述基片转正，获得转正后所述基片的中心坐标。

进一步地，所述镜头在所述坐标系内投射形成有投射点，获取所述边缘点的坐标包含如下步骤：